UV紫外臭氧清洗過程提供一種簡單，經(jīng)濟(jì)，快速獲得超潔凈的表面，去除大多數(shù)無機(jī)基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁*等）上的有機(jī)污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí)，紫外清洗非常理想。獲得超潔凈的表面，只需要在傳統(tǒng)清洗后，再用紫外臭氧清洗過程幾分鐘就可以啦。
紫外臭氧清洗可以去除：
皮膚油脂，有機(jī)硅油和油脂，助焊劑，殘留的光刻膠，膠水溶劑，碳等。
怎樣說是“超”潔凈？
接觸角測量方法4－5度。適用AES和ESCA測量細(xì)微的峰值。使用蒸汽測試，在冷凝和蒸發(fā)時(shí)形成一致的彩虹裝的條紋。通常情況下，使用清洗或是超聲清洗工序后，清潔關(guān)鍵表面認(rèn)為完成。紫外臭氧清洗提供一種新的清洗尺度。在傳統(tǒng)清洗工序后加入紫外清洗的應(yīng)用，產(chǎn)品的性能和可靠性的提升不斷的證明這種新的清洗尺度的價(jià)值。
紫外臭氧清洗工作原理：
UVOCS清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈，產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生，有機(jī)污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發(fā)或分解。激發(fā)的有機(jī)污染物可以和等離子氧原子反應(yīng)形成氣體，比如CO2,H2O等。整個(gè)過程在室溫**發(fā)生，并且只需要1到幾分鐘完成。
*注1：白色氧化鋁暴露在UV能量下會變黃。這種現(xiàn)象是由于基材吸收UV能量， 而不是一種涂層。這種氧化鋁在加熱情況下會轉(zhuǎn)化為他原來的顏色。
**注2：清洗元件溫度的上升取決清洗過程的時(shí)間長度。在大多數(shù)應(yīng)用，元件溫度可以視為室溫。
關(guān)鍵特性:
?間歇式燈泡工作方式。燈和定時(shí)器通過關(guān)閉門來觸發(fā)。
?滑行部件托盤－光滑－低震動，滾珠軸承系統(tǒng)－高度到1.5英寸。
?堅(jiān)固耐用，全部不銹鋼結(jié)構(gòu)
?長壽命。低壓石英水銀蒸汽燈發(fā)射254nm和185nm UV，促進(jìn)快速氧化，去除微量的有機(jī)殘留物。
?全面UV保護(hù)讓設(shè)備操作更安全。
?更低設(shè)備采購成本和操作成本。
?0-999秒/分鐘/小時(shí)定時(shí)器，能夠精確控制。燈和定時(shí)器通過門關(guān)閉來觸發(fā)。
?臭氧排氣護(hù)罩：UVOCS托盤型號有一個(gè)臭氧護(hù)罩，可以允許UVOCS清潔設(shè)備放在你的生產(chǎn)線或是設(shè)備，和過程相關(guān)設(shè)備放在一起。這會使得材料的再污染最小化。一個(gè)3英寸排氣出口內(nèi)置在護(hù)罩的后面，可以連接到你的排氣系統(tǒng)。沒有提供排氣風(fēng)扇。最小排氣量需求為100CFM.(立方英尺/分鐘)
?在操作過程結(jié)束時(shí)有蜂鳴聲。
?UV "ON"指示燈和可見窗口。
?操作簡單：設(shè)定定時(shí)器，打開門，抽出托盤，將元件放在托盤上。將托盤滑入并關(guān)閉門。在清洗操作過程結(jié)束有蜂鳴聲。打開門，移開全部的清洗元件。
典型應(yīng)用包括：
?表面的原子級清洗
?聚合物粘接
?去除有機(jī)分子
?釋放捕獲的無機(jī)分子
?微流控制作
?微米/納米構(gòu)型
?紫外光固化
?表面化學(xué)改性
?表面殺菌
?表面氧化
?金屬粘結(jié)準(zhǔn)備
UVOCS紫外清洗機(jī) | ||
型號 | T10x10/OES | T16x16/OES |
光照尺寸 | 10" x 10" （25.4×25.4cm） | 16" x 16" （40.6×40.6cm） |
有效面積: | 100 sq. in. | 256 sq. in. |
寬: | 14" | 20" |
深: | 23 3/4" | 29 3/4" |
高: | 14.5" | 14.5" |
托盤推出深度: | 33" | 46" |
滑行托盤: | 1 | 1 |
結(jié)構(gòu): | 箱體和托盤為不銹鋼結(jié)構(gòu) | |
功耗: | 110Vac / 60Hz 5A Max or 230Vac / 50Hz 2.5 amp Max | |
臭氧排氣系統(tǒng): | 有臭氧排氣系統(tǒng) | |
排氣口尺寸: | 3" 直徑 | |
排氣需要: | 100cfm | 100cfm |
定時(shí)器: | 在開始或結(jié)束時(shí)峰鳴 | |
"ON"指示器: | 有 | 有 |
