一、產品名稱概述：江蘇思峻光催化劑研磨分散機膠體磨
二、光催化劑的簡介
通俗意義上講觸媒就是催化劑的意思，光觸媒顧名思義就是光催化劑。
催化劑是改變化學反應速率的化學物質，其本身并不參與反應。光催化劑就是在光子的激發(fā)下能夠起到催化作用的化學物質的統(tǒng)稱。
三、光催化劑材料的種類
世界上能作為光觸媒的材料眾多，包括二氧化太,氧化鋅),氧化錫二氧化鋯，硫化鎘等多種氧化物硫化物半導體，其中二氧化太因其氧化能力強，化學性質穩(wěn)定無毒，成為世界上當紅的納米光觸媒材料；在早期，也曾經較多使用硫化鎘和氧化鋅作為光觸媒材料，但是由于這兩者的化學性質不穩(wěn)定，會在光催化的同時發(fā)生光溶解，溶出有害的金屬離子具有一定的生物毒性，故發(fā)達國家目前已經很少將它們用作為民用光催化材料，部分工業(yè)光催化領域還在使用。
二氧化太是一種半導體，分別具有銳鈦礦，金紅石及板鈦礦三種晶體結構，其中只有銳鈦礦結構和金紅石結構具有光催化特性。
四、光催化原理
因為生產光催化劑的材料幾乎都是固體半導體材料，因此光催化又稱為半導體光催化。
光催化氧化的機理是用固體能帶理論來解釋的；根據(jù)固體能帶理論，固體材料的能帶結構可以分為價帶、禁帶和導帶三部分；導體的導帶和價帶發(fā)生了重合即其禁帶寬度為零，所以導體可以導電;絕緣體的禁帶寬度很大以至于價帶的電子很難被激發(fā)使其躍遷至導帶，所以絕緣體不導電;半導體的禁帶寬度介于導體與絕緣體之間，所以其在一定條件下可以導電。 在半導體中，所有價電子所處的能帶就是所謂的價帶，比價帶能量更高的能帶便是導帶，介于價帶和導帶之間的空隙稱之為禁帶。
光催化氧化過程簡單的說就是價帶上的電子受到光照的激發(fā)躍遷至導帶，形成了電子和空穴，形成的電子-空穴對又引發(fā)了其他的一系列的反應。
五、光催化劑材料的分散
光催化材料應用中，一般需要將二氧化太分散到液體基料中，形成懸浮液，需要對光催化劑體系進行研磨分散，使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微粒化、均勻化的處理過程，這種處理同時起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用，使得光催化劑產品更穩(wěn)定；結合多家客戶案例，推薦使用江蘇思峻GMSD2000系列超高速研磨分散機，兩級結構，先研磨后分散，轉速0-18000rpm，研磨分散效果好，粒徑小，均勻度高。
六、光催化材料分散機的特點
1、光催化材料分散設備采用江蘇江蘇磚利技術，*創(chuàng)意，融化理念。將高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”。
2、GMSD2000系列全系采用德國博格曼雙端面機械密封，在保證冷卻水的前提下，可24小時連續(xù)運行。而傳統(tǒng)分散機很難做到連續(xù)、不間斷、長時間的運行，傳統(tǒng)設備的軸承不能承受高轉速的運行，通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供強勁切割力。
3、 GMSD2000系列光觸媒研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
弟一級由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。
七、江蘇思峻光催化劑研磨分散機膠體磨參數(shù)/選型表：
型號規(guī)格 流量（H2O） 轉速（r/min） 線速度（m/s） 功率（kw） 進出口尺寸
GMSD2000/4 300-1000 14000 44 2.2 DN25/15
GMSD2000/5 1000-1500 10500 44 7.5 DN40 /32
GMSD2000/10 3000 7300 44 15 DN50 / 50
GMSD2000/20 8000 4900 44 37 DN80 /65
GMSD2000/30 20000 2850 44 75 DN150 /125
GMSD2000/50 40000 2000 44 160 DN200 /150
