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    產(chǎn)品|二手機|公司|采購|資訊

    微波噴射等離子表面處理機(微波等離子,微波噴射等離子,大氣壓微波等離子,低溫等離子)

    參考價面議
    具體成交價以合同協(xié)議為準
    • 公司名稱大族激光科技產(chǎn)業(yè)集團股份有限公司
    • 品       牌
    • 型       號
    • 所  在  地
    • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
    • 更新時間 2021-12-01
    • 訪問次數(shù)1142
    產(chǎn)品標簽:

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    大族激光是世界主要的激光加工設(shè)備生產(chǎn)廠商之一,2014年公司銷售收入超過55億元人民幣,位居世界激光企業(yè)前三位,國內(nèi)激光設(shè)備占有率位。目前公司是廣東省裝備制造業(yè)重點企業(yè)、廣東省產(chǎn)品企業(yè)、深圳自主創(chuàng)新企業(yè),主要科研項目被認定為*火炬計劃項目。

    大族激光為國內(nèi)外客戶提供一整套激光加工解決方案及相關(guān)配套設(shè)施,主要產(chǎn)品包括:激光打標機系列、激光焊接機系列、激光切割機系列、高功率激光切割及焊接設(shè)備、激光演示系列、PCB鉆孔機系列、直線電機、LED設(shè)備等多個系列二百余種工業(yè)激光設(shè)備及其配套產(chǎn)品。公司產(chǎn)品涉及電子電路、集成電路、儀器儀表、計算機制造、手機通訊、汽車配件、精密器械、建筑建材、服裝服飾、城市燈光、金銀首飾、工藝禮品等多種行業(yè)。

    激光切割機,激光切管機,3d打印機
    應(yīng)用各種粘接前表面處理(COG、FOG、W/B等)玻璃基板表面處理印刷基板表面處里塑料產(chǎn)品表面處理印刷前、粘接前表面處理有機物處理芯片支架處理攝像頭模組處理裝置構(gòu)成:特點:1
    微波噴射等離子表面處理機(微波等離子,微波噴射等離子,大氣壓微波等離子,低溫等離子) 產(chǎn)品信息

    應(yīng)用

    各種粘接前表面處理(COG、FOG、W/B等)
    玻璃基板表面處理
    印刷基板表面處里
    塑料產(chǎn)品表面處理
    印刷前、粘接前表面處理
    有機物處理
    芯片支架處理
    攝像頭模組處理

    裝置構(gòu)成:

    微波噴射等離子表面處理機

    特點:

    1.高速處理能力

    不需要真空環(huán)境、在大氣壓下即可處理

    高密度的等離子、可進行高速處理

    2.低成本運行

    作業(yè)氣體只需要空氣CDA

    快速的反應(yīng)時間-按下按鈕1s后等離子穩(wěn)定放電

    3.緊湊型設(shè)計、所需動力簡單

    電源、控制、氣體單元一體化

    設(shè)置方便、簡單。所需動力-電力和CDA

    4.快速、完善的售后服務(wù)

    快速的售后技術(shù)服務(wù)、化的服務(wù)體系

    產(chǎn)品參數(shù):

    名稱(Name微波點式等離子清洗機
    型號(ModelM2-PLASMA
    電源(Power supply220VAC,50/60Hz
    功率(Power0-200w(連續(xù)可調(diào))
    頻率:2450MHz±20ppm
    等離子頭氣體流量:15±5 L/min
    等離子頭重量2Kg以下
    工作氣體(GasCDA(0.3MPa-0.85MPa)
    NO.項目規(guī)格備注
    等離子控制部規(guī)格
    1尺寸(WxDxH)243*485*310mm詳細規(guī)格參附件
    2重量<30kg
    3需求電源AC220V,50/60Hz,3根線,

    單相+接地線,5A

    地線<0.5Ω
    4等離子輸出功率0-200W連續(xù)可調(diào)
    5I/O-進氣接頭5x8mm連接至主氣源
    6氣體使用量CDA:10±5L/min
    7進氣壓力0.3-0.85MPa
    8配置空間要求通風良好(環(huán)境溫度15-30度)的地方。保留左右及上方有150mm以上散熱的空間,保留后方有120mm的線路空間。
    等離子照射部規(guī)格
    1尺寸(WxDxH)68*165*61mm詳細規(guī)格參附件
    2重量<2kg
    3控制部-照射部距離3-5m可根據(jù)客戶要求定制
    4處理距離與產(chǎn)品距離5~10mm視產(chǎn)品而定

    裝置本體:

    裝置本體等離子頭:

    等離子頭

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