產(chǎn)品信息
名稱(chēng): 高純鋯靶材 鋯顆粒 二氧化鋯 金屬濺射靶材
純度: 99.95%
尺寸: φ50.8*3,φ76.2*3 可定制
品牌: 金源新材
優(yōu)勢(shì): 純度高,導(dǎo)電性能好
用途: 磁控濺射鍍膜
工藝: 熔煉
包裝: 真空包裝
交貨期:現(xiàn)貨,訂制商品10個(gè)工作日
運(yùn)輸:順豐快遞
起訂量:1片
高純鋯靶材 鋯顆粒 二氧化鋯 金屬濺射靶材
北京金源新材新材提供的金屬靶材按照生產(chǎn)工藝分為熔煉鑄造法和粉末冶金法兩種:
金屬靶材如鋁、銅、鐵、鎳等均采用熔煉鑄造工藝,以高純金屬為原料,通過(guò)熔煉、鍛造、熱處理和精密機(jī)械加工而成;產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):純度高,晶粒尺寸小而均勻,表面平整。
難熔金屬靶材如鎢、鉬、鉭、鈮、鉻等均采用粉末冶金工藝,以高純超細(xì)粉末為原料,通過(guò)熱等靜壓等工藝加工成坯,軋制熱處理,精密機(jī)加工后制成靶材;產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):靶材孔隙率低,相對(duì)密度高,結(jié)構(gòu)均勻。