德國改進型膠體磨研磨分散機，新材料改進型膠體磨，石墨烯碳納米管改進型膠體磨，立式高速膠體磨，上海依肯改進型膠體磨，硅碳漿料高速研磨膠體磨，醫(yī)藥食品GMP膠體磨
上海IKN技術，du特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
ikn循環(huán)式作業(yè)方式的研磨分散機是一款改進型膠體磨，特別適合新材料的研究制備，目前已成功應用于硅硼漿、石墨烯、石墨烯改性材料、碳納米管、光伏材料、光催化研究，*研究等多項科研中，同時還廣泛應用于醫(yī)藥方面，懸浮液，膏劑，粉劑，針劑等多種均適用。具體詳情請接洽上海依肯 林工
IKN研磨分散機采用了二級處理結構，第yi級采用了高剪切研磨分散機的磨頭模塊，第二級采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊。第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子，定轉(zhuǎn)子可配2P、2G、4M、6F、8SF，（2P剪切力zui弱，為粗齒，8SF剪切力zui強，為超細齒）且定轉(zhuǎn)子經(jīng)密度都達到了guo際領xian水平。
三級錯齒結構的研磨轉(zhuǎn)子，配合經(jīng)密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,zui大的轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。
適用工藝：實驗室在線處理，可對物料進行循環(huán)處理，完成在線分散、乳化、均質(zhì)、混合。詳詢上海依肯 林萬翠 實驗室中試型設備，能夠準確地完成從小試到工業(yè)化的生產(chǎn)模擬，為檢驗生產(chǎn)工藝，選擇大生產(chǎn)設備提供依據(jù)，設備設計靈活，僅需更換工作頭就可以實現(xiàn)多種工藝要求。
CMSD 2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm |
| 線速度 m/s |
| 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 |
| 41 |
| 4 | DN25/DN15 |
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 |
| 41 |
| 11 | DN40/DN32 |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 |
| 41 |
| 22 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 |
| 41 |
| 45 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 |
| 41 |
| 90 | DN150/DN125 |
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 |
| 41 |
| 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
從設備角度分析，影響研磨效果的因素：
1 磨頭的形式（臥式和立式）
2 磨頭的剪切速率
3 磨頭的齒形結構（見磨頭結構）
4 物料在磨頭墻體的停留時間，乳化分散時間
5 循環(huán)次數(shù)
研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
研磨速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，研磨速率取決于以下因素：
- 磨頭的線速率
- 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 （相對而言）
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
IKN設備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
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