環(huán)保電離子納米拋光設(shè)備ECMC1000150
東莞市榮迅自動化設(shè)備有限公司開發(fā)出的全自動環(huán)保電離子納米拋光設(shè)備ECMC1000150是根據(jù)電化學原理與電離子體反應原理而研發(fā)的，專門解決不銹鋼、鈦材、鋁鎂合金、鋁制品、鈦合金及各種低碳導電材質(zhì)由沖壓造成的毛邊，處理工件表面及死角，能夠使霧面工件表面達到鏡面效果。
環(huán)保電離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝綜合了電漿拋光、電化學拋光及ECD電化學去毛刺原理，且配套了我司自主研發(fā)的高效節(jié)能型電源——僅在工件表面的分子層與電離子反應，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi)，因此電離子納米拋光處理可以化學活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學物質(zhì)。本公司進一步研發(fā)出納米拋光液配方，在拋光液成本上進一步降低，使拋光效果進一步優(yōu)化。
此方法是將待拋光工件浸入加熱的中性鹽水溶液中，并對其施加正極性電壓，該電解液無公害且廉價，所施加的電壓為200-400V，工件可以是不銹鋼、工具鋼、低碳鋼、銅、金和鋁等導電材料。在適當?shù)墓ぷ鳁l件下，工件表面會出現(xiàn)穩(wěn)定的蒸氣氣體層，該氣體層會把被處理表面與電解質(zhì)水溶液隔開，從而導致表面與電解液蒸氣之間產(chǎn)生強烈的電離子體化學和電化學反應，使被處理表面產(chǎn)生陰極氧化，同時又使陰極氧化層受到化學侵蝕，在氧化速度與侵蝕速度相等時出現(xiàn)拋光效果，其表現(xiàn)為光潔度上升及反射率提高。當氧化層zui薄且又足以抵御侵蝕作用時，其反射率出現(xiàn)zui高值。微觀不平處的氧化層zui薄，因此侵蝕總是發(fā)生在凸起部位.此外,被拋光表面被施加足夠高的電壓后,它和氣體層、蒸氣、電解液之間會產(chǎn)生很高的電場強度，這種強度也在微觀不平處得到強化。這些作用的綜合效果，使表面微觀凸起部位被削平，達到拋光效果。
與傳統(tǒng)拋光工藝相比，環(huán)保電離子電漿、環(huán)保電離子納米拋光工藝的優(yōu)勢主要表現(xiàn)在：
1、為客戶減輕環(huán)保壓力。本公司所使用的拋光液非常環(huán)保，在其廢液可以直接排放而不會造成污染，也可以稍作處理回收利用。納米拋光加工費用低，有利于推廣，并且對加工環(huán)境無污染，適應綠色制造的發(fā)展方向。
2、降低客戶生產(chǎn)成本。半自動、全自動環(huán)保電離子電漿、電離子納米拋光設(shè)備采用自動化控制，操作簡單，維護方便，減少作業(yè)人員、降低人工成本。同時也可為客戶節(jié)省因人工拋光、電解拋光、化學拋光等傳統(tǒng)拋光方法而造成的許多材料消耗。
3、為客戶提高生產(chǎn)效率。半自動、全自動環(huán)保電離子電漿、通過藥劑可在十幾秒到幾分鐘內(nèi)達到電鍍鏡面效果，大大提高了生產(chǎn)效率。
4、拋光效果好，提升客戶產(chǎn)品品質(zhì)。利用半自動、拋光出的產(chǎn)品具有高品質(zhì)，而且可以對一些人工不可能拋光的精密工件加以拋光。其精度控制*,尺寸影響小,通常可控制在0.1微米/分鐘,拋光均勻，使整個工件表面和死角部位都可以達到*的鏡面效果。增強拋光面的抗腐蝕性能，拋光過程中使工件表面產(chǎn)生一層鈍化膜，使其保持耐久光亮，有效防止氧化。高純度，有效減小對電子類產(chǎn)品的沾污。拋光后產(chǎn)品的特性主要表現(xiàn)在：粗糙度降低，光潔度、精密度提高、堅硬耐用、缺口敏感性降低、變得光滑整齊、摩擦系數(shù)下降、磨損減少等。拋光方法特性比較（見附表）
5、我司自主研發(fā)的高效節(jié)能型電源，
ECMC1000150
