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半導體超純水設(shè)備 芯片清洗設(shè)備
EDI超純水設(shè)備是當前生產(chǎn)工業(yè)用超純水的可靠產(chǎn)品，經(jīng)過了研究人員的大量實驗和實踐檢驗，能穩(wěn)定連續(xù)進行超純水生產(chǎn)，出水電阻率能達到16 MΩ*cm(25℃)。該設(shè)備采用了“雙級反滲透+EDI技術(shù)”的處理工藝，具有產(chǎn)水速度快、無污染、不易結(jié)垢堵塞、自動化強的特點。
反滲透技術(shù)是指利用反滲透膜強大的離子透過能力，對超純水中含有的有機物、金屬離子、微生物、礦物質(zhì)等進行過濾去除。經(jīng)過兩次反滲透膜過濾后的超純水成分中基本只含有氫原子和氧原子兩種成分。這個過濾過程中不需要化學反應(yīng)試劑，在物理條件下就能進行，因而能耗低、投資成本小。
半導體超純水設(shè)備 芯片清洗設(shè)備
EDI技術(shù)是實現(xiàn)超純水深度脫鹽的處理技術(shù)，它的進水一般是水質(zhì)好的二級反滲透產(chǎn)水，經(jīng)過EDI技術(shù)脫鹽后產(chǎn)生的濃水水質(zhì)比一級反滲透產(chǎn)水水質(zhì)更好，可以回流到一級反滲透產(chǎn)水箱繼續(xù)進行下一步處理。EDI階段的處理過程中不會產(chǎn)生酸堿廢液，能為企業(yè)避免對酸堿廢液進行中和反應(yīng)處理的麻煩，避免了污染，也提高了超純水生產(chǎn)效率。
EDI超純水設(shè)備運行連續(xù)穩(wěn)定，無須在生產(chǎn)中更換樹脂，還能實現(xiàn)自動化作業(yè)節(jié)約人工成本。該設(shè)備嚴格執(zhí)行國家環(huán)保政策，出水質(zhì)量穩(wěn)定達標、可靠性強。將其生產(chǎn)出的超純水應(yīng)用在工業(yè)中，可以用來清洗硅晶圓、液晶顯示器、發(fā)光二極管、光纖等工業(yè)產(chǎn)品，能避免對這些產(chǎn)品造成污染影響質(zhì)量。
此外，超純水在化妝品生產(chǎn)、食品飲料生產(chǎn)、生物實驗、化學實驗中也有很高應(yīng)用價值，其純度高、無菌、無污染，在生產(chǎn)中的影響幾乎可以忽略不計，經(jīng)濟價值很高。
