●本設(shè)備主要用于半導(dǎo)體刻蝕，能夠兼容離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕功能，使用氣態(tài)化學(xué)刻蝕劑與材料產(chǎn)生反應(yīng)來進行刻蝕，并形成可從襯底上移除的揮發(fā)性副產(chǎn)品，通過真空系統(tǒng)排出，特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷亞胺( PI) 薄膜、金屬等材料。
成都真空廠家 surpass大口徑等離子刻蝕機
| 參考價 | ￥ 1000000 |
| 訂貨量 | ≥1件 |
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱成都漢普升科技有限公司
- 品 牌其他品牌
- 型 號
- 所 在 地成都市
- 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2023-11-13
- 訪問次數(shù)421
產(chǎn)品標簽:
成都漢普升科技有限公司，成立于2015年11月16日，致力于電真空、核級裝備、人工晶體材料及薄膜制備設(shè)備的技術(shù)提升，在服務(wù)領(lǐng)域深耕細作，具有較深的技術(shù)沉積。
公司成立以來，在自己所擅長領(lǐng)域為客戶提供優(yōu)良的產(chǎn)品和技術(shù)解決方案，公司注重產(chǎn)品和運營模式創(chuàng)新，我們堅信：唯有創(chuàng)新方能給用戶增值，公司已與多家科研院所、高等院校及企事業(yè)單位進行橫向合作，形成了科研級、工業(yè)級產(chǎn)品體系，已為客戶設(shè)計制造了多套專用設(shè)備和儀器，獲得了用戶廣泛贊譽。
光學(xué)器件
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