●主要功能:多靶復合磁控濺射鍍膜機,可滿足合金膜、單層膜、多層膜、導電膜、非導電膜和反應濺射的需要,具有高的實用性和通用性(三靶、垂直與共濺射合一、在線清洗基片等),能夠提供高水平功能薄膜研制,特別適合于半導體、新能源、磁性材料、儲氫材料、二維材料、超硬薄膜、固體潤滑薄膜、自潔凈薄膜、等領域前沿研究,同時可選配等離子刻蝕功能和輔助鍍膜。
1. 主體和腔室:全封閉框架結構,機柜和主機為一體式結構,骨架默認為白色,門板為白色,四只腳輪,可固定,可移動。真空腔室采用優(yōu)質0Cr18Ni9不銹鋼材質(SUS304),腔體尺寸不小于為:?450x500mm;真空室為前開門方式,采用鉸鏈連接,自動鎖緊,并配有門到位開關,杜絕誤操作;真空腔室設置DN100觀察窗口,位置在真空腔體正前方。
2. 真空系統(tǒng):
2.1 極限真空度≤Pa(空載、經(jīng)充分烘烤除氣并充干燥氮氣)。
2.2 真空配置。 前級泵為機械真空泵,抽速優(yōu)于8L/S,超高分子泵一臺,抽速1200L/S。
2.3 真空測量:采用進口全量程真空計,優(yōu)選德國萊寶與瑞士inficon。
3. 工件盤系統(tǒng):配備工件盤一套,可安裝4英寸基片1片,選配高溫工件盤<800℃。
4. 磁控濺射系統(tǒng):配置三只2-4英寸濺射陰極,三只靶均能兼容直流和射頻濺射,并可單獨自由切換,磁控靶安裝與真空室底部,向上濺射成膜。
5.充氣系統(tǒng):二路分別配置MFC質量流量控制器,均為0-100SCCM,準確度±1%F.S,線性±0.5%F.S,重復精度±0.2%F.S。
5. 其他:配置斷水保護,配置冷水機組,冷水機制冷量為5000Kcal;設備配備小型空壓機;保修期1年,維修響應時間不超過24小時。
6. 操作系統(tǒng)及安全監(jiān)控:采用人機界面+西門子PLC實現(xiàn)對設備集中自動控制;所有控制系統(tǒng)和電氣安裝均與主機集成在一起,避免控制柜與主機之間線路放在地上或從頂部引入帶來的問題,模塊化設計能確保社保維護維修的便捷性。