隨著半導(dǎo)體、電子行業(yè)的技術(shù)發(fā)展，對(duì)水處理設(shè)備的需求也越來(lái)越廣泛，國(guó)內(nèi)外超純水設(shè)備的技術(shù)也獲得了飛速的發(fā)展和廣泛的應(yīng)用，涌現(xiàn)出一大批超純水處理方面領(lǐng)域的公司企業(yè)，。目前國(guó)內(nèi)的超純水制備行業(yè)正處于快速的發(fā)展階段，但是相比國(guó)外的發(fā)展水平仍有很大的差距。隨著國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體生產(chǎn)線(xiàn)的普及，超純水制備設(shè)備的需求越來(lái)越大，目前國(guó)內(nèi)的現(xiàn)代超純水水質(zhì)以電阻率、TOC（總有機(jī)碳）、細(xì)菌、微粒、DO（溶解氧）、可溶硅、離子和金屬雜質(zhì)等參數(shù)來(lái)表征，它們對(duì)器件影響大。因此，這就需要設(shè)計(jì)一臺(tái)能夠制備滿(mǎn)足指標(biāo)要求的浸沒(méi)液超純水處理系統(tǒng)，以保證光刻機(jī)的正常運(yùn)行。超純水處理系統(tǒng)是制備超純水的自動(dòng)控制系統(tǒng)，在光刻機(jī)中它作為浸沒(méi)控制系統(tǒng)中的子模塊，主要負(fù)責(zé)對(duì)超純水的制備，對(duì)超純水污染物質(zhì)進(jìn)行處理，并達(dá)到浸沒(méi)供給液各項(xiàng)指標(biāo)要求。

超純水設(shè)備

EDI超純水設(shè)備工作原理：

EDI工作原理如圖所示。EDI膜塊中將一定數(shù)量的EDI單元用格板隔開(kāi)，形成濃水室和淡水室。又在單元兩端設(shè)置陰/陽(yáng)電極。在直流電的推動(dòng)下，通過(guò)淡水室水流中的陰陽(yáng)離子分別透過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜遷移到濃水室而在淡水室中去除。如下圖：

電場(chǎng)使進(jìn)水中的水分子在離子交換樹(shù)脂界面離解成H+及OH-，并不斷地再生淡水室中陰、陽(yáng)離子交換樹(shù)脂。離子交換樹(shù)脂中的陰、陽(yáng)離子在再生過(guò)程中受到相應(yīng)正負(fù)電極的吸引，透過(guò)陽(yáng)、陰離子交換樹(shù)脂向所對(duì)應(yīng)的離子膜的方向遷移。當(dāng)這些離子透過(guò)交換膜進(jìn)入濃室后，H+及OH-重新結(jié)合成水。這種H+及OH-的產(chǎn)生、湮滅及陰、陽(yáng)離子遷移正是離子交換樹(shù)脂得以實(shí)現(xiàn)連續(xù)再生的機(jī)理。

半導(dǎo)體EDI超純水設(shè)備 濱潤(rùn)半導(dǎo)體EDI超純水設(shè)備 濱潤(rùn)