大型雙面研磨機(jī)的主要用途

本機(jī)主要適用于硅片、石英晶片、光學(xué)晶體、光學(xué)玻璃、鈮酸鋰、砷化鉀、陶瓷片等薄脆金屬或非金屬的研磨或拋光。

主要特點(diǎn)

1、采用交流變頻電機(jī)驅(qū)動(dòng)，軟啟動(dòng)、軟停止，平穩(wěn)可靠。
2、油壓升降齒圈、非常平穩(wěn)，太陽輪下有墊片可調(diào)整位置，有效利用了齒圈和太陽輪。
3、上盤單獨(dú)設(shè)置了緩降氣缸，不但有效防止了薄脆工件的破碎，而且還可獨(dú)立進(jìn)行壓力控制。
4、通過使用電子預(yù)置計(jì)數(shù)器，研磨的圈數(shù)、要求可準(zhǔn)確控制。
5、可以采用修盤方式修整研磨盤。
6、可與ALC（頻率監(jiān)控儀）連接。

技術(shù)參數(shù)

1、研磨盤直徑（MM）:φ849×φ274×30                 
2、zui大理想研磨直徑（MM）：φ270
3、加工件平面平行度：0.2μ（φ10）                      
4、游輪參數(shù)：英制DP12，Z=150
5、游輪數(shù)量：5個(gè)                                  
6、zui小研磨厚度：0.15mm（φ10）
7、主機(jī)功率：5.5KW（研磨）7.5KW（拋光）          
8、下研磨盤轉(zhuǎn)速（rpm）:0~60
9、砂泵功率：370W                                
10、流砂形式：循環(huán)或點(diǎn)滴

11、設(shè)備外形尺寸（MM）：1250×1540×2780           
12、重量（KG）：~3200