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    產(chǎn)品|二手機(jī)|公司|采購|資訊

    8寸晶圓等離子去膠機(jī)

    參考價面議
    具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
    • 公司名稱深圳市東信高科自動化設(shè)備有限公司
    • 品       牌
    • 型       號TS-PR08
    • 所  在  地
    • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
    • 更新時間 2023-07-27
    • 訪問次數(shù)374
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    深圳市東信高科自動化設(shè)備有限公司始創(chuàng)于1998年,是國內(nèi)早期批從事真空及大氣低溫等離子體(電漿) 技術(shù)、射頻及微波等離子體技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)銷售于一體的國家,隸屬于東信高科等離子科技(香港)控股有限公司,總部設(shè)于香港。目前公司設(shè)立有等離子事業(yè)部,超聲清洗事業(yè)部,自動化設(shè)備事業(yè)部,塑膠焊接事業(yè)部。產(chǎn)品涵蓋等離子體表面處理,超聲波清洗、電鍍、制冷等領(lǐng)域。為適應(yīng)國內(nèi)外市場對等離子體表面處理工藝的需求,東信高科等離子事業(yè)部聯(lián)合德國等離子體研究等離子研究所,德國Diener公司實(shí)驗(yàn)室等國內(nèi)外科研機(jī)構(gòu),投入大量資金,先后研發(fā)出了等離子清洗機(jī)、等離子刻蝕機(jī)、等離子去膠機(jī)、等離子表面處理設(shè)備、電漿清洗機(jī)及常壓等離子打磨、拋光系統(tǒng)等自動化設(shè)備。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于包裝、塑料制品、通訊、汽車、家電、光電、紡織、半導(dǎo)體及精密制造等行業(yè),在表面涂裝、表面粘接、表面清潔方面尤為突出。經(jīng)過近二十年的發(fā)展,不斷革新技術(shù)與產(chǎn)品,成功的推動了我國低溫等離子技術(shù)在等離子體塵埃、晶體、材料合成、微米納米技術(shù)、化工、環(huán)保、表面聚合、表面接枝、表面刻蝕、表面催化、金屬滲氮、化學(xué)合成和氣、液、固態(tài)物質(zhì)處理方面的發(fā)展。公司憑借強(qiáng)大的科研實(shí)力,已成功申請了多項(xiàng)技術(shù)。公司先后與富士康公司、美國AAC集團(tuán)、愛普生電子、中國兵器集團(tuán)、中國電子科技集、、東南大學(xué)光電實(shí)驗(yàn)室、深圳比亞迪股份有限公司等世界500強(qiáng)公司和研究單位達(dá)成戰(zhàn)略合作協(xié)議,成為上述企業(yè)和單位的超聲波、等離子處理設(shè)備供貨商。公司秉承誠信、拼搏、創(chuàng)新的精神理念,以人為本、高效服務(wù)的經(jīng)營理念,立足中國,面向,打的等離子表面處理設(shè)備供應(yīng)商和服務(wù)商!
    超聲波模具拋光機(jī),超聲波清洗機(jī),水滴角測量儀
    產(chǎn)品簡介: RIE反應(yīng)離子刻蝕模式,處理速率更高
    8寸晶圓等離子去膠機(jī) 產(chǎn)品信息

    產(chǎn)品參數(shù):

    型號 TS-PR08等離子去膠機(jī)
    適用尺寸
    8寸及以下晶圓(可定制)
    反應(yīng)氣體
    3路,(氧氣、氬氣、氮?dú)獾确歉g性氣體)
    真空測定系統(tǒng)
    皮拉尼真空硅管
    工作真空度
    30Pa以內(nèi)
    氣體流量控制
    0-500mL/min MFC氣體質(zhì)量流量計(jì)精確控制流量
    等離子電源
    13.56MHz/1000W連續(xù)調(diào)節(jié)
    電極固定方式
    水冷固定電極
    有效處理尺寸
    φ210(mm)
    電極尺寸
    Φ230(mm)
    設(shè)備外形尺寸
    W635×D665×H1250(mm) 不含三色燈高度
    水冷機(jī) 1P
    電源
    AC220V,50/60Hz

    產(chǎn)品介紹:

    低成本、高性能、實(shí)驗(yàn)性等離子去膠機(jī),手動裝載晶圓片,應(yīng)用于單片晶圓光刻膠灰化、殘膠去除及表面清洗工藝,適用于大學(xué)、硏究院所、企業(yè)硏發(fā)機(jī)構(gòu)及小批量生產(chǎn)廠商。

    ?處理方式:RIE模式

    ?樣片數(shù)量及尺寸:單片8英寸以下

    ?刻蝕材料:Si、SiO2、SiN、Poly-Si、GaAs、Pt、聚酰亞胺等各種材料的蝕刻

    ?刻蝕腔體:高真空系統(tǒng)

     ?刻蝕不均勻性:±3%-±6%

    ?刻蝕速率:0.1-1um/min (視具體材料與工藝)

    關(guān)鍵詞:流量計(jì)

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