圓柱硅片拋光機(jī)
主要用途:
該硅片拋光機(jī)主要適用用各種大尺寸硅片及晶體材料的拋光。
工作原理:
本系列由四個(gè)吸附盤吸附硅片與拋光盤做逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)來(lái)達(dá)到拋光的目的。
特點(diǎn):
1.本系列的吸附盤由四臺(tái)單獨(dú)的電機(jī)驅(qū)動(dòng)、速度與壓力可調(diào)。
2.控制系統(tǒng)中采用PLC彩色終端等*技術(shù),系統(tǒng)的響應(yīng)速度更快、更精確,并具有遠(yuǎn)程監(jiān)控,遠(yuǎn)程維護(hù)的功能;
3.本系列運(yùn)行平穩(wěn),拋光后的產(chǎn)品厚度公差可控制在正負(fù)0.002mm范圍內(nèi),粗糙度可達(dá)到0.0005mm。
設(shè)備規(guī)格:
型號(hào) | YM-18A | YM-24A | YM-36A | YM-48A |
拋光盤規(guī)格 | φ460*φ140 | φ610*φ200 | φ910*φ300 | φ1220*φ400 |
zui大拋光尺寸 | φ150mm | φ200mm | φ300mm | φ450mm |
拋光后平面度 | ±0.5u以內(nèi) | ±0.7u以內(nèi) | ±1u以內(nèi) | ±1u以內(nèi) |
工件平行度(25mm) | ±1u以內(nèi) | ±1.5u以內(nèi) | ±2u以內(nèi) | ±2u以內(nèi) |
工件粗糙度 | 0.4nm以內(nèi) | 0.4nm以內(nèi) | 0.4nm以內(nèi) | 0.4nm以內(nèi) |
拋光盤電機(jī)功率 | 2.2kw 3相380V | 3.7kw 3相380V | 7.7kw 3相380V | 11kw 3相380V |
拋光盤轉(zhuǎn)速 | 0~120rpm | 0~100rpm | 0~80rpm | 0~60rpm |
外形尺寸 | 700*1100*1100mm | 950*1200*2200mm | 1200*1400*2300mm | 1500*1700*2400mm |
重量 | 960kg | 1800kg | 2600kg | 4500kg |