設(shè)備用途:
廣泛應(yīng)用于大型模具、手機(jī)面板、手機(jī)外殼、各種LOGO、大型玻璃、導(dǎo)光板,陶瓷板、閥片、五金零部件等平面拋光。
設(shè)備原理:
1、本研磨為精密拋光設(shè)備,被磨、拋材料放于拋光盤上,拋光盤逆時鐘轉(zhuǎn)動,轉(zhuǎn)速可控,加壓氣缸對工件施壓或砝碼加壓,工件與拋光盤作相對運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦,來達(dá)到拋光目的。
2、此設(shè)備配合高精密平面拋光機(jī)使拋光盤平整度達(dá)到±0.003mm,確保高精密零部件加工的穩(wěn)定性,大大節(jié)省時間。
設(shè)備特點:
1、系列拋光機(jī)工件加壓采用氣缸加壓或砝碼加壓的方式,壓力可調(diào);
2、系列拋光機(jī)采用按鈕控制或PLC程控,速度可調(diào),操作方便。
3、研磨拋光機(jī)采用自動滴液系統(tǒng),滴液速度可調(diào),流速均勻,方便控制成本。
設(shè)備規(guī)格: