一、產(chǎn)品用途、適用范圍及特點

本機主要用于碳化硅、硅片、鍺片、鈮酸鋰、玻璃等硬脆材料的單面研磨，也可用于藍寶石片狀材料的單面研磨，以及用于其它硬脆材料平行平面的單面高精度、高效率研磨。

該機采用觸摸界面及PLC控制。為用戶提供開放式的圖形操控界面，充分發(fā)揮機械硬件性能；該機主傳動具有傳動鏈短、穩(wěn)定可靠等特點；四個上拋頭主動旋轉(zhuǎn)，壓力控制采用電氣比例閥強制冷卻，溫度控制精確。 

二、設(shè)備傳動結(jié)構(gòu)及布局 

Ø 主軸系統(tǒng)位于設(shè)備的下方，由電機通過窄V帶拖動蝸輪蝸桿減速箱，減速箱與軸直連，保證了其運轉(zhuǎn)精度,下盤采用交叉磙子軸承定位支撐，運轉(zhuǎn)剛度和精度都得到了良好的保障，下盤軸下部裝有旋轉(zhuǎn)接頭，用于拋盤內(nèi)通冷卻水；

Ø 上拋光系統(tǒng)頭位于設(shè)備的上部，上拋光頭的升降及加壓由氣缸實現(xiàn)，上盤設(shè)有冷卻水通路用于上拋頭的冷卻，上拋頭的旋轉(zhuǎn)由減速電機通過齒輪直接驅(qū)動；

Ø 在下拋盤中間設(shè)有可升降的一個中間導輪裝置，在接液盆邊緣部位設(shè)有四個外導輪裝置，二者配合可實現(xiàn)工件盤的自動定位；

Ø 在設(shè)備的上部橫梁正面設(shè)有主操作面板，可進行參數(shù)設(shè)定，運行監(jiān)控等功能，在橫梁的側(cè)面各有兩個小操縱板用于四個上拋頭的升降操作；

Ø 在設(shè)備后部箱體上裝有液路系統(tǒng)，設(shè)有上下盤冷卻水、拋光液、清洗水的通路；

Ø 在設(shè)備的前部箱體與橫梁兩側(cè)裝有前立柱，用于橫梁的輔助支撐，立柱高度方向可微調(diào)；

Ø 在箱體的右側(cè)設(shè)有兩個加油口，用于主軸兩組軸承的潤滑；

Ø 在橫梁上裝有紅外測溫裝置，用于拋盤盤面溫度的監(jiān)測；

Ø 在下拋盤的外側(cè)設(shè)有可滑動的防護罩，可防止工作液的飛濺，減少有害氣體的溢出；

Ø 工作液采用鉆石液噴霧方式

Ø 具有車刀裝置，可對銅盤盤面進行面型修正及刻槽加工。