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    NIE-4000(M)IBE離子束刻蝕

    參考價面議
    具體成交價以合同協(xié)議為準
    • 公司名稱那諾—馬斯特中國有限公司
    • 品       牌
    • 型       號
    • 所  在  地國外
    • 廠商性質生產廠家
    • 更新時間 2022-12-06
    • 訪問次數(shù)486

    那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月,是服務大中華區(qū)(包含中國大陸,香港,中國臺灣和澳門)的客戶,同時我們在中國大陸設有專門的服務辦公室,提供銷售和售后技術服務。


    那諾-馬斯特中國的主要產品包括薄膜沉積設備、薄膜生長設備干法刻蝕設備、兆聲濕法清洗設備及太空模擬測試設備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國,該公司是法國那諾-馬斯*限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司,是一家國ji領xian的缺陷檢測和高速鍍層測量的計量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。


    自2001年Nano-Master開始設計開發(fā)薄膜應用方面的設備,正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應用領域涵蓋了半導體、MEMS、光電子學、納米技術和光伏等。我們的設備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD,用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD,濺射鍍膜(反應濺、共濺 、組合濺),熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā),離子束刻蝕和反應離子刻蝕,原子層沉積,兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時間內Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為全qiu薄膜設備的供應商,已售出的幾百套設備分布于20多個不同國家的大學、研發(fā)中心和國家重點實驗室。


    我們聘用技術熟練并具有良好教育背景的設計和制造工程師、應用工程師、服務工程師、技術支持人員,使得公司擁有yi流的服務團隊。作為薄膜工藝的設備提供商,我們的目標是提供高品質的服務并始終維持zui高水平的集成度。



    ALD,PECVD,RIE,磁控濺射,熱蒸鍍,電子束,離子束,熱真空試驗,晶圓清洗機,PA-MOCVD
    產地 進口 售后保修期 12個月
    銷售區(qū)域 全國
    NIE-4000(M)IBE離子束刻蝕產品概述:如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,樣品表面采用厚膠作為掩模層,刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量,否則光刻膠將變得非常難以去除。NANO-MASTER技術已經(jīng)證明了可以把基片溫度控制在50° C以內的同時,旋轉
    NIE-4000(M)IBE離子束刻蝕 產品信息


    NIE-4000(M)IBE離子束刻蝕產品概述:如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,樣品表面采用厚膠作為掩模層,刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量,否則光刻膠將變得非常難以去除。

    NANO-MASTER技術已經(jīng)證明了可以把基片溫度控制在50° C以內的同時,旋轉晶圓片以達到想要的均勻度。



    NIE-4000(M)IBE離子束刻蝕產品特點:

    • 14.5”不銹鋼立體離子束腔體

    • 16cm DC離子槍1200eV,650mA, 氣動不銹鋼遮板

    • 離子束中和器

    • 氬氣MFC

    • 6”水冷樣品臺

    • 晶片旋轉速度3、10RPM,真空步進電機

    • 步進電機控制晶圓片傾斜

    • 手動上下載晶圓片

    • 典型刻蝕速率:銅200 ?/min, 硅:500 ?/min

    • 6”范圍內,刻蝕均勻度+/-3%

    • J限真空5x10-7Torr,20分鐘內可達到10-6Torr級別(配套500 l/s渦輪分子泵)

    • 配套1000 l/s渦輪分子泵,J限真空可達8x10-8Torr

    • 磁控濺射Si3N4以保護被刻蝕金屬表面被氧化

    • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

    • 菜單驅動,4級密碼訪問保護

    • 完整的安全聯(lián)鎖



    關鍵詞:步進電機
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