機(jī)床商務(wù)網(wǎng)>產(chǎn)品庫>儀器>其它儀器>其它>>LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)

LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)

參考價	面議

參考價

面議

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱那諾—馬斯特中國有限公司
品牌
型號
所在地國外
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時間 2022-11-16
訪問次數(shù)301

產(chǎn)品標(biāo)簽:

晶圓清洗設(shè)備晶圓清洗機(jī)硅片清洗設(shè)備硅片清洗機(jī)半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備

詢底價點(diǎn)擊查看聯(lián)系電話

索取相關(guān)資料

公司介紹主營產(chǎn)品

那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月，是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國大陸，香港，中國臺灣和澳門)的客戶，同時我們在中國大陸設(shè)有專門的服務(wù)辦公室，提供銷售和售后技術(shù)服務(wù)。

那諾-馬斯特中國的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測試設(shè)備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國，該公司是法國那諾-馬斯*限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司，是一家國ji領(lǐng)xian的缺陷檢測和高速鍍層測量的計量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。

自2001年Nano-Master開始設(shè)計開發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備，正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD，用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD，濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺、組合濺)，熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)，離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕，原子層沉積，兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為全qiu薄膜設(shè)備的供應(yīng)商，已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個不同國家的大學(xué)、研發(fā)中心和國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室。

我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)工程師、技術(shù)支持人員，使得公司擁有yi流的服務(wù)團(tuán)隊(duì)。作為薄膜工藝的設(shè)備提供商，我們的目標(biāo)是提供高品質(zhì)的服務(wù)并始終維持zui高水平的集成度。

展開顯示更多內(nèi)容

ALD，PECVD，RIE，磁控濺射，熱蒸鍍，電子束，離子束，熱真空試驗(yàn)，晶圓清洗機(jī)，PA-MOCVD

產(chǎn)品簡介在線詢價

產(chǎn)地	進(jìn)口	售后保修期	12個月
銷售區(qū)域	全國

LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版。NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(LSC)系統(tǒng)，用于的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到*化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣

LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)概述：

兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版。

NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(LSC)系統(tǒng)，用于的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到*化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的z大化支持z理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。

LSC系統(tǒng)提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。SWC和LSC具備對點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng)，可以*節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力，提供了可控的化學(xué)試劑在整個基片上的分布。

通過聯(lián)合使用化學(xué)試劑滴膠和NANO-MASTER的兆聲清洗技術(shù)，系統(tǒng)去除顆粒的能力得到進(jìn)一步優(yōu)化。顆粒從表面被釋放的能力也因此得到提升，從而被釋放的顆粒在幅流的DI水作用下被掃除出去，而把回附的數(shù)量降到了z低水平。從基片表面被去除。如果沒有使用幅流DI水的優(yōu)S，的靜態(tài)可循環(huán)兆聲清洗槽會有更大數(shù)量的顆粒回附，并且因此需要更多的去除這些顆粒。

此外，NANO-MASTER的清洗機(jī)都還提供了一系列的選配功能。PVA軟毛刷提供了機(jī)械的方式去除無圖案基片上的污點(diǎn)和殘膠。DI水臭氧化的選配項(xiàng)提供了有機(jī)物的去除，而無須腐蝕性的化學(xué)試劑。我們的氫化DI水系統(tǒng)跟兆聲能量結(jié)合可以達(dá)到納米級的顆粒去除。根據(jù)不同的應(yīng)用，某些選配項(xiàng)將會進(jìn)一步提高設(shè)備去除不想要的顆粒和殘留物的能力。

SWC系統(tǒng)能夠就地實(shí)現(xiàn)熱氮或異丙醇甩干。“干進(jìn)干出” 一步工藝可以在我們的系統(tǒng)中以z低的投資和購置成本來實(shí)現(xiàn)。NANO-MASTER清洗機(jī)的工藝處理時間可以在3-5分鐘內(nèi)完成，具體是3分鐘還是5分鐘取決于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情況。

NANO-MASTER的技術(shù)也適用于清洗背部以及帶保護(hù)膜掩模版前面的對準(zhǔn)標(biāo)記，降低這些掩模版的不必要去除和重做保護(hù)膜的幾率。它也可以用于去除薄膜膠黏劑的黏附性并準(zhǔn)備表面以便再次覆膜。此外，帶薄膜掩模版的全部正面的兆聲清洗以及旋轉(zhuǎn)甩干可以做到無損并且對薄膜無滲漏。