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    產(chǎn)品|二手機|公司|采購|資訊

    NPC-4000(M)等離子去膠機(刻蝕機)

    參考價面議
    具體成交價以合同協(xié)議為準
    • 公司名稱那諾—馬斯特中國有限公司
    • 品       牌
    • 型       號
    • 所  在  地國外
    • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
    • 更新時間 2022-11-11
    • 訪問次數(shù)640

    那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月,是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國大陸,香港,中國臺灣和澳門)的客戶,同時我們在中國大陸設(shè)有專門的服務(wù)辦公室,提供銷售和售后技術(shù)服務(wù)。


    那諾-馬斯特中國的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長設(shè)備干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測試設(shè)備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國,該公司是法國那諾-馬斯*限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司,是一家國ji領(lǐng)xian的缺陷檢測和高速鍍層測量的計量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。


    自2001年Nano-Master開始設(shè)計開發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備,正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD,用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD,濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺 、組合濺),熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā),離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕,原子層沉積,兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為全qiu薄膜設(shè)備的供應(yīng)商,已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個不同國家的大學(xué)、研發(fā)中心和國家重點實驗室。


    我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)工程師、技術(shù)支持人員,使得公司擁有yi流的服務(wù)團隊。作為薄膜工藝的設(shè)備提供商,我們的目標是提供高品質(zhì)的服務(wù)并始終維持zui高水平的集成度。



    ALD,PECVD,RIE,磁控濺射,熱蒸鍍,電子束,離子束,熱真空試驗,晶圓清洗機,PA-MOCVD
    產(chǎn)地 進口 售后保修期 12個月
    銷售區(qū)域 全國
    NPC-4000(M)等離子去膠機(刻蝕機)概述:NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
    NPC-4000(M)等離子去膠機(刻蝕機) 產(chǎn)品信息

    NPC-4000(M)等離子去膠機(刻蝕機)概述:NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。


    NPC-4000(M).png


    NPC-4000(M)等離子去膠機(刻蝕機)產(chǎn)品特點:

    • 緊湊型立式系統(tǒng)

    • 手動上下載片

    • 不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔

    • 兼容100級超凈間使用

    • 淋浴頭、ICP或微波等離子源

    • 旋轉(zhuǎn)樣品臺

    • RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺

    • 全自動或手動RF調(diào)諧

    • z多可支持8個MFC帶電拋光的氣體管路

    • PC計算機控制的氣動閥

    • 帶密碼保護的多級訪問控制

    • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

    • 機械泵的壓力可達到10mTorr

    • 250 l/s的渦輪分子泵

    • J限真空為5x10-7Torr

    • 完整的安全聯(lián)鎖


    NPC-4000(M)應(yīng)用:

    • 有機物以及無機物的殘留物去除

    • 光刻膠剝離或灰化

    • 去殘膠以及內(nèi)腐蝕(深腐蝕)應(yīng)用

    • 清洗微電子元件,電路板上的鉆孔或銅線框架

    • 提高黏附性,消除鍵合問題

    • 塑料的表面改型:O2處理以改進涂覆性能

    • 產(chǎn)生親水或疏水表面


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