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NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱那諾—馬斯特中國(guó)有限公司
品牌
型號(hào)
所在地國(guó)外
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間 2022-12-06
訪問(wèn)次數(shù)355

產(chǎn)品標(biāo)簽:

ald原子層沉積原子層沉積設(shè)備原子層沉積系統(tǒng)薄膜沉積系統(tǒng)

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

那諾-馬斯特中國(guó)有限公司成立于2015年4月，是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國(guó)大陸，香港，中國(guó)臺(tái)灣和澳門)的客戶，同時(shí)我們?cè)谥袊?guó)大陸設(shè)有專門的服務(wù)辦公室，提供銷售和售后技術(shù)服務(wù)。

那諾-馬斯特中國(guó)的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長(zhǎng)設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測(cè)試設(shè)備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國(guó)，該公司是法國(guó)那諾-馬斯*限公司于1992年在美國(guó)所創(chuàng)立的全資子公司，是一家國(guó)ji領(lǐng)xian的缺陷檢測(cè)和高速鍍層測(cè)量的計(jì)量公司。自從1993年開(kāi)始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國(guó)并正式更名。

自2001年Nano-Master開(kāi)始設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備，正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD，用于InGaN、AlGaN生長(zhǎng)的PA-MOCVD，濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺、組合濺)，熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)，離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕，原子層沉積，兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時(shí)間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為全qiu薄膜設(shè)備的供應(yīng)商，已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個(gè)不同國(guó)家的大學(xué)、研發(fā)中心和國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室。

我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計(jì)和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)工程師、技術(shù)支持人員，使得公司擁有yi流的服務(wù)團(tuán)隊(duì)。作為薄膜工藝的設(shè)備提供商，我們的目標(biāo)是提供高品質(zhì)的服務(wù)并始終維持zui高水平的集成度。

展開(kāi)顯示更多內(nèi)容

ALD，PECVD，RIE，磁控濺射，熱蒸鍍，電子束，離子束，熱真空試驗(yàn)，晶圓清洗機(jī)，PA-MOCVD

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

產(chǎn)地	進(jìn)口	售后保修期	12個(gè)月
銷售區(qū)域	全國(guó)

NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備概述：原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用。ALD原子層沉積可以滿足較精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來(lái)影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會(huì)帶來(lái)非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無(wú)孔的特性，可以提供優(yōu)異的薄膜性能。AL

NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備產(chǎn)品信息

NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備概述：原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用。ALD原子層沉積可以滿足較精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來(lái)影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會(huì)帶來(lái)非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無(wú)孔的特性，可以提供優(yōu)異的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實(shí)現(xiàn)到大基片上。

NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備特點(diǎn)：NLD-3500（A）是一款全自動(dòng)獨(dú)立的PC計(jì)算機(jī)控制的ALD原子層沉積系統(tǒng)，帶Labview軟件，具備四級(jí)密碼控制的用戶shou權(quán)保護(hù)功能。系統(tǒng)為全自動(dòng)的安全互鎖設(shè)計(jì)，并提供了強(qiáng)大的靈活性，可以用于沉積多種薄膜（如：AL₂O₃, AlN, TiN, ZrO₂, LaO₂, HfO₂,等等）。應(yīng)用領(lǐng)域包含半導(dǎo)體、光伏、MEMS等。NLD-3500（A）系統(tǒng)提供12”的鋁質(zhì)反應(yīng)腔體，帶有加熱腔壁和氣動(dòng)升降頂蓋，非常方便腔體的訪問(wèn)和清潔。該系統(tǒng)擁有一個(gè)載氣艙包含多達(dá)7個(gè)50ml的加熱汽缸，用于前驅(qū)體以及反應(yīng)物，同時(shí)帶有N2或者Ar作為運(yùn)載氣體的快脈沖加熱傳輸閥。

NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備選配：NLD-3500（A）系統(tǒng)的選配項(xiàng)包含，ICP離子源(用于等離子增強(qiáng)的PEALD)，臭氧發(fā)生器，等等。

NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備應(yīng)用：