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NLD-4000（M）原子層沉積系統(tǒng)

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公司名稱那諾—馬斯特中國有限公司
品牌
型號
所在地國外
廠商性質生產廠家
更新時間 2022-11-09
訪問次數406

產品標簽:

ald原子層沉積原子層沉積設備原子層沉積系統(tǒng)薄膜沉積系統(tǒng)

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那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月，是服務大中華區(qū)(包含中國大陸，香港，中國臺灣和澳門)的客戶，同時我們在中國大陸設有專門的服務辦公室，提供銷售和售后技術服務。

那諾-馬斯特中國的主要產品包括薄膜沉積設備、薄膜生長設備、干法刻蝕設備、兆聲濕法清洗設備及太空模擬測試設備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國，該公司是法國那諾-馬斯*限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司，是一家國ji領xian的缺陷檢測和高速鍍層測量的計量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。

自2001年Nano-Master開始設計開發(fā)薄膜應用方面的設備，正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應用領域涵蓋了半導體、MEMS、光電子學、納米技術和光伏等。我們的設備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD，用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD，濺射鍍膜(反應濺、共濺、組合濺)，熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)，離子束刻蝕和反應離子刻蝕，原子層沉積，兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時間內Nano-Master已經發(fā)展成為全qiu薄膜設備的供應商，已售出的幾百套設備分布于20多個不同國家的大學、研發(fā)中心和國家重點實驗室。

我們聘用技術熟練并具有良好教育背景的設計和制造工程師、應用工程師、服務工程師、技術支持人員，使得公司擁有yi流的服務團隊。作為薄膜工藝的設備提供商，我們的目標是提供高品質的服務并始終維持zui高水平的集成度。

展開顯示更多內容

ALD，PECVD，RIE，磁控濺射，熱蒸鍍，電子束，離子束，熱真空試驗，晶圓清洗機，PA-MOCVD

產品簡介在線詢價

產地	進口	售后保修期	12個月
銷售區(qū)域	全國

NLD-4000（M）原子層沉積系統(tǒng)概述：原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術，具有廣泛的應用。ALD原子層沉積可以滿足較精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統(tǒng)計的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性，可以提供優(yōu)異的薄膜性能。ALD原子

NLD-4000（M）原子層沉積系統(tǒng) 產品信息

NLD-4000（M）原子層沉積系統(tǒng)概述：原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術，具有廣泛的應用。ALD原子層沉積可以滿足較精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統(tǒng)計的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性，可以提供優(yōu)異的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實現到大基片上。

NLD-4000（M）原子層沉積系統(tǒng)特點：NLD-4000是一款獨立的PC計算機控制的ALD原子層沉積系統(tǒng)，帶Labview軟件，具備四級密碼控制的用戶shou權保護功能。系統(tǒng)為全自動的安全互鎖設計，并提供了強大的靈活性，可以用于沉積多種薄膜（如：AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等）。應用領域包含半導體、光伏、MEMS等。NLD-4000系統(tǒng)提供12”的鋁質反應腔體，帶有加熱腔壁和氣動升降頂蓋，非常方便腔體的訪問和清潔。該系統(tǒng)擁有一個載氣艙包含多達7個50ml的加熱汽缸，用于前驅體以及反應物，同時帶有N2或者Ar作為運載氣體的快脈沖加熱傳輸閥。

NLD-4000（M）原子層沉積系統(tǒng)選配：NLD-4000系統(tǒng)的選配項包含自動L/UL上下載(用于6”基片)，ICP離子源(用于等離子增強的PEALD)，臭氧發(fā)生器，等等。

NLD-4000（M）原子層沉積系統(tǒng)應用：