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    產(chǎn)品|二手機(jī)|公司|采購|資訊

    NMC-4000(A)全自動PAMOCVD系統(tǒng)

    參考價面議
    具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
    • 公司名稱那諾—馬斯特中國有限公司
    • 品       牌
    • 型       號
    • 所  在  地國外
    • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
    • 更新時間 2022-11-18
    • 訪問次數(shù)256

    那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月,是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國大陸,香港,中國臺灣和澳門)的客戶,同時我們在中國大陸設(shè)有專門的服務(wù)辦公室,提供銷售和售后技術(shù)服務(wù)。


    那諾-馬斯特中國的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長設(shè)備干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測試設(shè)備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國,該公司是法國那諾-馬斯*限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司,是一家國ji領(lǐng)xian的缺陷檢測和高速鍍層測量的計量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。


    自2001年Nano-Master開始設(shè)計開發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備,正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD,用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD,濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺 、組合濺),熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā),離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕,原子層沉積,兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為全qiu薄膜設(shè)備的供應(yīng)商,已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個不同國家的大學(xué)、研發(fā)中心和國家重點(diǎn)實(shí)驗室。


    我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)工程師、技術(shù)支持人員,使得公司擁有yi流的服務(wù)團(tuán)隊。作為薄膜工藝的設(shè)備提供商,我們的目標(biāo)是提供高品質(zhì)的服務(wù)并始終維持zui高水平的集成度。



    ALD,PECVD,RIE,磁控濺射,熱蒸鍍,電子束,離子束,熱真空試驗,晶圓清洗機(jī),PA-MOCVD
    產(chǎn)地 進(jìn)口 售后保修期 12個月
    銷售區(qū)域 全國
    NMC-4000(A)全自動PAMOCVD系統(tǒng)概述:NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個鼓泡裝置(各帶獨(dú)立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7TorrJ限真空)、PC全
    NMC-4000(A)全自動PAMOCVD系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

    NMC-4000(A)全自動PAMOCVD系統(tǒng)概述:NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個鼓泡裝置(各帶獨(dú)立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7TorrJ限真空)、PC全自動控制,*的安全互鎖。

    目前,這項技術(shù)延伸到5個4"晶圓的立柜式獨(dú)立批處理系統(tǒng),該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產(chǎn)量的要求。


    NMC-4000(A)全自動PAMOCVD系統(tǒng)應(yīng)用:Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)


    NMC-4000(M)-1.png


    特點(diǎn):

    • 獨(dú)立系統(tǒng)

    • 14”不銹鋼立方體腔體

    • 1次在8”樣品臺上處理1個6”晶圓片或在12”樣品臺上處理5片4”片子

    • 加熱的氣體管路

    • RF等離子源,自動調(diào)諧

    • 淋浴頭氣體分布

    • 1100°C的旋轉(zhuǎn)樣品臺

    • N2沖洗

    • 全自動上下載片

    • 可以兼容到集群配置中


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