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    產(chǎn)品|二手機(jī)|公司|采購(gòu)|資訊

    NRE-4000型RIE-PE刻蝕機(jī)

    參考價(jià)面議
    具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
    • 公司名稱那諾—馬斯特中國(guó)有限公司
    • 品       牌
    • 型       號(hào)
    • 所  在  地國(guó)外
    • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
    • 更新時(shí)間 2022-11-18
    • 訪問(wèn)次數(shù)347

    那諾-馬斯特中國(guó)有限公司成立于2015年4月,是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國(guó)大陸,香港,中國(guó)臺(tái)灣和澳門)的客戶,同時(shí)我們?cè)谥袊?guó)大陸設(shè)有專門的服務(wù)辦公室,提供銷售和售后技術(shù)服務(wù)。


    那諾-馬斯特中國(guó)的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長(zhǎng)設(shè)備干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測(cè)試設(shè)備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國(guó),該公司是法國(guó)那諾-馬斯*限公司于1992年在美國(guó)所創(chuàng)立的全資子公司,是一家國(guó)ji領(lǐng)xian的缺陷檢測(cè)和高速鍍層測(cè)量的計(jì)量公司。自從1993年開(kāi)始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國(guó)并正式更名。


    自2001年Nano-Master開(kāi)始設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備,正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD,用于InGaN、AlGaN生長(zhǎng)的PA-MOCVD,濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺 、組合濺),熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā),離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕,原子層沉積,兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時(shí)間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為全qiu薄膜設(shè)備的供應(yīng)商,已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個(gè)不同國(guó)家的大學(xué)、研發(fā)中心和國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室。


    我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計(jì)和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)工程師、技術(shù)支持人員,使得公司擁有yi流的服務(wù)團(tuán)隊(duì)。作為薄膜工藝的設(shè)備提供商,我們的目標(biāo)是提供高品質(zhì)的服務(wù)并始終維持zui高水平的集成度。



    ALD,PECVD,RIE,磁控濺射,熱蒸鍍,電子束,離子束,熱真空試驗(yàn),晶圓清洗機(jī),PA-MOCVD
    產(chǎn)地 進(jìn)口 售后保修期 12個(gè)月
    銷售區(qū)域 全國(guó)
    NRE-4000型RIE-PE刻蝕機(jī)概述:NRE-4000是一款獨(dú)立式PE刻蝕RIE刻蝕一體機(jī),配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2“的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持至大到12“的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計(jì),并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6 Torr 或更小的J限真空。該系統(tǒng)系統(tǒng)可以在20mTor
    NRE-4000型RIE-PE刻蝕機(jī) 產(chǎn)品信息

    NRE-4000型RIE-PE刻蝕機(jī)概述:NRE-4000是一款獨(dú)立式PE刻蝕RIE刻蝕一體機(jī),配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2"的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持至大到12"的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計(jì),并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6 Torr 或更小的J限真空。該系統(tǒng)系統(tǒng)可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個(gè)節(jié)流閥,一個(gè)250l/s的渦輪分子泵,濾網(wǎng)過(guò)濾器,以及一個(gè)10cfm的機(jī)械泵(帶Formblin泵油).RF射頻功率通過(guò)600W,13.56MHz的電源和自動(dòng)調(diào)諧器提供。系統(tǒng)將持續(xù)監(jiān)控直流自偏壓,該自偏壓可以高達(dá)-500V.這對(duì)于各向異性的刻蝕至關(guān)重要。


    NRE-4000型RIE-PE刻蝕機(jī)是基于PC控制的全自動(dòng)系統(tǒng).系統(tǒng)真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實(shí)時(shí)顯示,流量及功率則以數(shù)字形式實(shí)時(shí)顯示.系統(tǒng)提供密碼保護(hù)的四級(jí)訪問(wèn)功能:操作員級(jí)、工程師級(jí)、工藝人員級(jí),以及維護(hù)人員級(jí).允許半自動(dòng)模式(工程師模式)、寫(xiě)程序模式(工藝模式), 和全自動(dòng)執(zhí)行程序模式(操作模式)運(yùn)行系統(tǒng)。基于全自動(dòng)的控制,該系統(tǒng)具有高度的可重復(fù)性。


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    NRE-4000型產(chǎn)品特點(diǎn):

    • 鋁質(zhì)腔體或不銹鋼腔體

    • 不銹鋼立柜

    • 支持各向同性刻蝕和各向異性刻蝕兩種模式

    • 能夠刻蝕硅的化合物(~400? /min)以及金屬

    • 典型的硅刻蝕速率,400 ?/min

    • 高達(dá)12"的陽(yáng)J氧化鋁RF樣品臺(tái)

    • 水冷及加熱的RF樣品臺(tái)

    • 大的自偏壓

    • 淋浴頭氣流分布

    • J限真空5x10-7Torr,20分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6Torr級(jí)別

    • 渦輪分子泵

    • NRE-3000至多支持4個(gè)MFC,NRE-4000至多支持8個(gè)MFC

    • 無(wú)繞曲氣體管路

    • 自動(dòng)下游壓力控制

    • 雙刻蝕能力:RIE以及PE刻蝕(可選)

    • 終點(diǎn)監(jiān)測(cè)

    • 氣動(dòng)升降頂蓋

    • 手動(dòng)或自動(dòng)上下載片

    • 預(yù)真空鎖

    • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制

    • 菜單驅(qū)動(dòng),4級(jí)密碼訪問(wèn)保護(hù)

    • *的安全聯(lián)鎖

    • 可選ICP離子源以及低溫冷卻樣品臺(tái),用于深硅刻蝕


    NRE-4000RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)產(chǎn)品型號(hào):

    • NRE-4000:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的獨(dú)立式系統(tǒng),占地面積26“D x 44"W

    • NRE-3500:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的緊湊型獨(dú)立式系統(tǒng),占地面積26“D x 26"W

    • NRE-3000:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的臺(tái)式系統(tǒng),占地面積26“D x 26"W

    • NRP-4000:RIE/PECVD雙系統(tǒng)

    • NDR-4000:深RIE刻蝕(深硅刻蝕)系統(tǒng)


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