NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達8"旋轉平臺，可支持4個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，J限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
NSC-4000帶有13”鋁質腔體，4個2”的磁控管，DC直流和RF射頻電源。 在選配方面，我們提供不銹鋼腔體，500 l/s渦輪分子泵，額外的磁控管和襯底加熱功能。
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機產品特點：
不銹鋼，鋁質腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
70，250或500 l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵
13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下載片
基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
帶密碼保護功能的多級訪問控制
*的安全聯(lián)鎖
選配項：
向上、向下或側面濺射
RF、DC以及脈沖DC濺射
共濺射、反應濺射
組合濺射
RF或DC偏壓（1000V）
樣品臺可加熱到700°C
膜厚監(jiān)測儀
基片的RF射頻等離子清洗
預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片
應用：
晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆
光學以及ITO涂覆
帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
帶RF射頻等離子放電的反應濺射
型號：
NSC-4000：基于PC計算機全自動控制的獨立式系統(tǒng)
NSC-3500：基于PC計算機全自動控制的緊湊型獨立式系統(tǒng)
NSC-3000：PC計算機全自動控制的臺式系統(tǒng)
NSC-1000：半自動控制的臺式系統(tǒng)
(以下為雙系統(tǒng)型號)
NSR-4000：濺射/RIE系統(tǒng)
NSP-4000：濺射/PECVD系統(tǒng)
NST-4000：濺射/熱蒸發(fā)系統(tǒng)
