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    研發(fā)藍(lán)寶石拋光機(jī),超高拋光技術(shù)

    參考價(jià)面議
    具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
    • 公司名稱(chēng)深圳市方達(dá)研磨技術(shù)有限公司
    • 品       牌
    • 型       號(hào)
    • 所  在  地
    • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
    • 更新時(shí)間 2022-10-20
    • 訪問(wèn)次數(shù)458
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    深圳市方達(dá)研磨技術(shù)有限公司創(chuàng)建于2000年,位于寶安區(qū)西鄉(xiāng)固戍路口,是一家專(zhuān)業(yè)從事各種高精密研磨設(shè)備、拋光設(shè)備及其配套產(chǎn)品和消耗材料的*。本公司集研發(fā)設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造、銷(xiāo)售和售后服務(wù)于一體,其產(chǎn)品廣泛適用于光學(xué)、航空、汽車(chē)、模具、寶石加工及各種五金行業(yè)。客戶群遍及全國(guó)各地和歐、美、曰等地區(qū)。其代表有華為、中電集團(tuán);美國(guó)蘋(píng)果、曰本大新、松下;德國(guó)博土;中國(guó)臺(tái)灣富士康等眾多中外企業(yè)。  經(jīng)過(guò)多年的努力和發(fā)展,本公司已凝聚了一批包括國(guó)家863課題研究小組副組長(zhǎng)胡敬祥在內(nèi)的技術(shù)人員和管理人員,具有很強(qiáng)的技術(shù)實(shí)力和競(jìng)爭(zhēng)力。此外還成功研發(fā)了多項(xiàng)研磨新技術(shù)新工藝,設(shè)計(jì)、制造了多種糸列的研磨、拋光設(shè)備。這些技術(shù)和設(shè)備有相當(dāng)部分*了國(guó)內(nèi)研磨行業(yè)的空白,有的己達(dá)*水平,得到中科院的好評(píng),并入選參加863計(jì)劃(即中國(guó)高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃)。此外,本公司還與南京市政府、西北工業(yè)大學(xué)等單位合作進(jìn)行專(zhuān)業(yè)人才培養(yǎng),并在西北工業(yè)大學(xué)建立專(zhuān)業(yè)的研磨實(shí)驗(yàn)室,進(jìn)行專(zhuān)業(yè)的課題研究和技術(shù)開(kāi)發(fā);與南京技師學(xué)院合作建立產(chǎn)學(xué)基地。

    經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目:制造銷(xiāo)售設(shè)備類(lèi):平面研磨機(jī).平面拋光機(jī).雙面研磨機(jī).雙面拋光機(jī).鏡面拋光機(jī),橫向研磨機(jī),不銹鋼拋光機(jī)陶瓷拋光機(jī)等機(jī)器來(lái)料加工類(lèi):五金零件.光學(xué)晶體材料等產(chǎn)品的平面研磨拋光加工消耗品類(lèi):1:?jiǎn)尉w金剛石研磨液.多晶體金剛石研磨液.拋光液.潤(rùn)滑油2:合成鐵盤(pán).合成銅盤(pán).錫盤(pán).純錫盤(pán).
     

    平面研磨機(jī),平面拋光機(jī),雙面研磨機(jī),不銹鋼拋光機(jī),導(dǎo)光板拋光機(jī),陶瓷拋光機(jī),硅片拋光機(jī),橫向減薄機(jī)
    研發(fā)藍(lán)寶石拋光機(jī),超高拋光技術(shù)
    研發(fā)藍(lán)寶石拋光機(jī),超高拋光技術(shù) 產(chǎn)品信息


    主要用途:
    本設(shè)備主要用于藍(lán)寶石片、陶瓷片材料的精細(xì)拋光。
    設(shè)備原理及特點(diǎn)
    1. 本設(shè)備為單面精密研磨設(shè)備,采用*的機(jī)械結(jié)構(gòu)和多種*控制方法,研磨加工效率高,運(yùn)行穩(wěn)定。
    2. 整機(jī)采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),設(shè)備參數(shù)設(shè)置和操作簡(jiǎn)單方便,系統(tǒng)運(yùn)行穩(wěn)定性高。
    3. 主電機(jī)采用變頻調(diào)速控制,實(shí)現(xiàn)主機(jī)軟啟動(dòng)、軟停機(jī),降低設(shè)備運(yùn)行沖擊,減少工件損傷。
    4. 工件研磨壓力采用氣缸加壓方式,通過(guò)電氣比例閥控制實(shí)現(xiàn)壓力的閉環(huán)控制,保證的施壓精度與穩(wěn)定性。
    5. 上壓盤(pán)采用主動(dòng)驅(qū)動(dòng)方式,在確保產(chǎn)品研磨速率的前提下保證各工位研磨加工的統(tǒng)一性。
    6. 研磨盤(pán)與上壓盤(pán)都設(shè)置了冷卻水冷卻功能,在保證研磨液發(fā)揮效率的同時(shí)減少研磨盤(pán)面的變形。
    7. 設(shè)備自帶盤(pán)面修整機(jī),盤(pán)面修整后可保證0.01mm的盤(pán)面平整度。
    設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)

    拋光盤(pán)規(guī)格

    910x255mm

    陶瓷盤(pán)直徑

    360mm

    主電機(jī)功率

    7.5KW/380V

    壓盤(pán)電機(jī)功率

    0.4KW/380Vx4

    主電機(jī)轉(zhuǎn)速

    90rpmmax

    設(shè)備工位數(shù)

    4個(gè)

    設(shè)備規(guī)格

    1200x1900x2500mm

    設(shè)備重量

    2100KG












    關(guān)鍵詞:控制系統(tǒng)

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