- X 軸測(cè)量系統(tǒng)：
- 使用高精度 Heidenhain 光學(xué)尺系統(tǒng)
- 床臺(tái)左和右兩側(cè)有 Heidenhain 光學(xué)尺系統(tǒng)
- 使用RENISHAW 光學(xué)尺量測(cè)系統(tǒng)，長(zhǎng)度為 80 mm
- 綜合量測(cè)系統(tǒng)，提供 100 mm 範(fàn)圍內(nèi)高精度量測(cè)，以及標(biāo)準(zhǔn)精度量測(cè)
商品規(guī)格
| ULM 520 S-E | ULM 1000 S-E | |
| 外量測(cè)的量測(cè)範(fàn)圍 [mm] | 0 至 520 | 0 至 1025 |
| 內(nèi)量測(cè)的量測(cè)範(fàn)圍 [mm] | 0.5 至 365 | 0.5 至 870 |
| 量測(cè)範(fàn)圍 [mm] | 外量測(cè)：0 至 520 內(nèi)量測(cè)：0.5 至 365 | 外量測(cè)：0 至 1025 內(nèi)量測(cè)：0.5 至 870 |
| 量測(cè)不確定度 MPEE1 [µm] (L in mm) | 阿貝量測(cè)元素：MPE E1 ≤(0.09+L/2000) 基床量測(cè)系統(tǒng)：MPE E1 ≤(0.6+L/1000) | 阿貝量測(cè)元素：MPE E1 ≤(0.09+L/2000) 基床量測(cè)系統(tǒng)：MPE E1 ≤(0.6+L/1000) |
| 測(cè)量力 [N] | 0.2 ; 1.0 - 4.5 ; 11 | 0.2 ; 1.0 - 4.5 ; 11 |
| 重複性 [µm] | 阿貝量測(cè)元素：≤ 0.05 基床量測(cè)系統(tǒng)：≤ 0.2 | 阿貝量測(cè)元素：≤ 0.05 基床量測(cè)系統(tǒng)：≤ 0.2 |
