掩膜版制備工藝主要采用曝光腐蝕工藝(與光刻法在硅表面制備高精度的圖案類似),這種方法可以根據(jù)客戶要求靈活設(shè)計各種圖案,且制備出來的圖案尺寸標(biāo)準(zhǔn)。我們的圖案尺寸精度可以達(dá)到0.01mm以上,邊緣銳利無毛刺,開孔直線度好,真圓度好。
圓形掩膜板產(chǎn)品特點:
1、低開模費,可以按設(shè)計人員的設(shè)計要求進(jìn)行掩膜圖形任意更改,成本低
2、能實現(xiàn)金屬的半刻,增加公司LOGO,實現(xiàn)品牌化生
3、*的精密度,可達(dá)+/-0.0075mm的精度,滿足不同產(chǎn)品的組裝要求
4、復(fù)雜外形產(chǎn)品同樣可以蝕刻,無需額外增加成本
5、沒有毛刺,壓點,產(chǎn)品不變形,不改變材料性質(zhì),不影響產(chǎn)品的功能
6、厚薄材料都可以一樣加工,滿足不同裝配組件的要求
7、幾乎所有金屬都能被蝕刻,對各種圖案設(shè)計無限制
8、制造各類機械加工所無法完成的金屬部件
如果客戶有自己的圓形掩膜版的樣品,可以只考慮做一片上面所示的單片掩膜版就行。如果沒有較好的固定器件的方案,建議采用我們的疊層設(shè)計法。