產(chǎn)品介紹
PL31晶圓清洗劑
簡 介
本品專用于晶圓芯片、光學制品的清洗,具有*的清洗力,能快速有效祛除產(chǎn)品表面可移動不可移動殘留物,如:氧化硅拋光液殘留、光刻膠殘留、粉塵顆粒物、油污等;清洗效果穩(wěn)定,不傷鍍膜層。該產(chǎn)品也能有效去除返修芯片的紅膠。
用途特性
2 高性價比,能整體有效的降低清洗和維護成本;
2 對人無毒、無閃點,使用安全得到保障;
2 高效:在設(shè)定的工作條件下,5-10分鐘即可將污垢洗凈;
2 無腐蝕:對材料相容性好。
主要技術(shù)指標
外觀(原液) | 無色透明液體 |
比重 | 1.06±0.01 |
PH值 | 10—11 |
氣味 | 無
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使用方法
根據(jù)不同要求原液或稀釋使用,稀釋比例不超過20倍;使用前請咨詢我司技術(shù)人員!
溫度:50-60℃ 時間:5-10分鐘
注意:清洗設(shè)備建議選擇高頻超聲波清洗,避免因頻率過高震傷產(chǎn)品。
注意事項
如不慎進入眼中應(yīng)立即用清水沖洗,人工清洗時,請配戴防護手套;
儲存于陰涼干燥處,避免陽光直射
包裝規(guī)格
25KG/桶