- 曝光制程的紫外線波長
在紫外線波長中,USHIO的超高壓UV燈仍可有效運用3線(436nm?405nm?365nm)波長,是長效型、且具有穩(wěn)定放射照度的高亮度光源。 - 發(fā)揮光學系性能的點狀光源
弧形大小極接近點狀光源,易于集中與擴散光學系統(tǒng)上的光,因此可以得到均勻的照度分布。 - 配合半導體、液晶?彩色濾光片?PDP以及印刷基板用線路成形等各種用途的燈輸出
因應回路與類型燒付照度需求的提高、小型(100w級)~超大型(35kw級)為止、適用各尺寸的燈具。 - 發(fā)揮現(xiàn)有設備性能的高照度
因應現(xiàn)有設備Throughput提高的需求、即使僅使用高照度燈、亦可望確實提高產能。
※部分設備商產品則必須實施設備改造。 - 對應需求波長的燈具開發(fā)
配合顧客新設備的開發(fā),開發(fā)出的燈具。詳情請洽詢
紫外線壽命特性
主要數(shù)據資料
分光分布(超高壓UV燈)
分光分布(Deep UV燈)
- 半導體回路形成用光源
- 液晶回路形成用光源
- 彩色濾光片回路形成用光源
- 電漿顯示器回路形成用光源
- 印刷電路板回路形成用光源
- MEMS回路形成用光源
- 檢查用光源
其他新的曝光用途等