納米氧化鈰研拋盤
納米氧化鈰研拋盤是以氧化鈰材料為主,另由數(shù)種復合材料構成的,專用于光學及高檔手機玻璃研磨拋光。可替代傳統(tǒng)氧化鈰拋光布及瀝青拋光盤,其特點:不易變形.切削力佳.易修正平面度.壽命長.是常規(guī)氧化鈰皮3-4倍的耐用度.標準厚度5-6MM,具有研磨和拋光的雙重功效,在射燈下檢測無任何劃傷,直徑100MM內平面度可達到一個光圈內,粗糙度0.2納米左右,使用時間以12小時/天為計算,預計可以用2-3個月。是國內一家針對光學行業(yè)的工藝技術!
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納米氧化鈰研拋盤
納米氧化鈰研拋盤是以氧化鈰材料為主,另由數(shù)種復合材料構成的,專用于光學及高檔手機玻璃研磨拋光。可替代傳統(tǒng)氧化鈰拋光布及瀝青拋光盤,其特點:不易變形.切削力佳.易修正平面度.壽命長.是常規(guī)氧化鈰皮3-4倍的耐用度.標準厚度5-6MM,具有研磨和拋光的雙重功效,在射燈下檢測無任何劃傷,直徑100MM內平面度可達到一個光圈內,粗糙度0.2納米左右,使用時間以12小時/天為計算,預計可以用2-3個月。是國內一家針對光學行業(yè)的工藝技術!
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