Wafer Grinding晶圓研磨機GNX200BP
——又稱晶圓減薄/晶圓拋光機
GNX200BP晶圓研磨機Wafer Grinding概要:
GNX200BP晶圓研磨機是一款全自動的連續(xù)向下進給研磨機。晶圓由機械手通過機器進行處理,并裝載/卸載臂。在研磨站之后,使用兩個不同的站進行晶片清潔。卡盤轉(zhuǎn)速,砂輪轉(zhuǎn)速和砂輪主軸下降速度可以用來控制砂輪的產(chǎn)量,表面光潔度和砂輪壽命。兩點制程量規(guī)測量系統(tǒng)控制磨削主軸1和2下的晶片厚度。三點磨削主軸角度調(diào)節(jié)機構(gòu)用于輕松保持晶片輪廓(ttv);可選配電動調(diào)節(jié)裝置。在研磨站完成后,晶片將自動轉(zhuǎn)移到拋光單元。局部拋光單元消除了表面下的損壞,從而提高了晶片的芯片強度,并具有處理50微米厚度的能力。
Wafer Grinding_GNX200BP晶圓研磨機特點:
1.研削加工技術(shù):日本機械學(xué)會授予岡本標(biāo)準(zhǔn)傳送方式及向下研磨方法技術(shù)獎。
2.機械精度的調(diào)整方法:通過主軸進行調(diào)整,因為可進行原點定位,所以精度調(diào)整相當(dāng)容易;可2處調(diào)節(jié)。
3.標(biāo)準(zhǔn)驅(qū)動方式:齒軸+定位銷進行定位,長年使用也不會發(fā)生位移。
4.標(biāo)準(zhǔn)潤滑方式:潤滑油及防護罩,防止進入異物造成磨損。
5.設(shè)備剛性:高剛性,不會因老化造成精度變化,部件由岡本自產(chǎn)鑄金一體化生產(chǎn)。
Wafer Grinding晶圓研磨機GNX200BP相關(guān)產(chǎn)品:
衡鵬供應(yīng)
GDM300 晶圓研磨/晶圓減薄/晶圓拋光/晶圓背拋/Wafer Grinding