產(chǎn)品簡(jiǎn)介:微型PECVD系統(tǒng)采用Ø3" × 16" 的石英腔體,內(nèi)部設(shè)有加熱圈對(duì)樣品進(jìn)行加熱,高溫度可以達(dá)到400℃,且采用程序化控溫,系統(tǒng)還配有2通道混氣裝置和雙旋機(jī)械泵,整套系統(tǒng)安放于移動(dòng)架上,便于實(shí)驗(yàn)操作。本系統(tǒng)系對(duì)于薄膜生長(zhǎng)和納米線的制作是的選擇。
產(chǎn)品型號(hào) | 微型PECVD系統(tǒng) |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:不需要 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氣體,需自備氣瓶氣源 4、工作臺(tái):尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上 5、通風(fēng)裝置:需要 |
主要特點(diǎn) | 1、加熱圈套有石英罩,以減小熱量損失。 2、樣品可置于加圈內(nèi),以達(dá)到更好的加熱效率和溫度均勻性。 3、采用PID方式調(diào)節(jié)溫度,可設(shè)置30段升降溫程序。 4、設(shè)有一滑動(dòng)法蘭安裝于移動(dòng)加上,以便于樣品的放入和取出。 5、已通過(guò)CE認(rèn)證。 |
技術(shù)參數(shù) | 等離子源 1、等離子體射頻電源:110V/220V 50Hz/60Hz <100W 2、輸出頻率:13.56MHz 3、射頻功率:7.2W、10.5W、18W三檔,可調(diào)節(jié) 4、腔體尺寸:外徑Ø76.2mm×內(nèi)徑Ø68.58mm×長(zhǎng)406.4mm 5、加熱圈:電源220V,大功率500W,外徑Ø50mm×內(nèi)徑Ø40mm×70mm,并套有內(nèi)徑Ø50.8mm×Ø75mm的石英罩 6、法蘭:Ø3″不銹鋼法蘭,設(shè)有KF-25真空泵接口、1/4″卡套接頭、不銹鋼針閥 7、通入氣體:可通入多種惰性氣體,如N2、Ar,不可通入易燃易爆性氣體 8、真空度:10-2torr(機(jī)械泵) |
兩通道混氣系統(tǒng) 1、浮子流量計(jì):10ml/min-100ml/min,2個(gè) 2、針閥:304不銹鋼針閥,3個(gè) 3、壓力表:-0.1MPa-1.0MPa(0.01MPa/grid),3個(gè) | |
真空泵 1、抽氣速率:120L/min 2、接口:KF-25 | |
產(chǎn)品規(guī)格 | 1、尺寸:等離子源216mm×254mm×203mm,控制盒102mm×254mm×203mm, 兩通道混氣系統(tǒng)340mm×300mm×180mm,移動(dòng)架600mm×600mm×1250mm 2、重量:32kg |