產(chǎn)品簡介:OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐是一款快速蒸發(fā)管式爐,專門用于PVD或CSS法制作薄膜;其爐管外徑為11″,爐管內(nèi)載樣盤可放置3″ 的圓形或2″×2″的方形基片;OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐加熱元件為兩組紅外燈管,分別安裝在腔體頂端和底部,升溫速率高達(dá)20℃/s ,可迅速使?fàn)t腔內(nèi)溫度升高;冷卻速率:>10℃/s,可在鍍膜后使樣品快速降溫;溫控系統(tǒng)采用PID30段程序化控制,控溫精度為±1℃,并且儀器面板上帶有RS485接口,若儀表內(nèi)配有控溫軟件,就可將升溫程序和曲線導(dǎo)出。
產(chǎn)品型號 | OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐 |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設(shè)備需選配自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水) 2、電:AC220V 50Hz(20A空氣開關(guān)),必須有良好接地 3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭) 4、工作臺:設(shè)備為落地式,占地面積1m2以上 5、通風(fēng)裝置:需要 |
主要特點 | 1、為了減小熱輻射和達(dá)到快速冷卻的效果,加熱元件被嵌在水冷機(jī)構(gòu)上。 2、緊貼頂部加熱元件上裝有一氮化鋁基片(Ø76mm×0.5mm),使得樣品基片上的溫度更加均勻。 3、3″的石墨坩堝可放于底部加熱元件上,用于盛放蒸發(fā)料。 4、真空法蘭通過兩個硅膠O型圈進(jìn)行密封,通過機(jī)械泵其腔內(nèi)真空度可達(dá)10-2torr,通過分子泵真空度可達(dá)10-5 torr。 5、兩個真空法蘭都可以通過手動操作進(jìn)行上下移動。 6、一個數(shù)字式真空顯示計安裝在法蘭頂部,可以精確測量腔內(nèi)真空度。 |
技術(shù)參數(shù) | 1、電源:單相AC208V-240V(需20A的空氣開關(guān)) 2、真空腔體:高純石英管,外徑280mm,內(nèi)徑275mm,高229mm 3、加熱元件:兩組IR紅外燈管,額定功率800W,總功率1600W 4、熱電偶:S型熱電偶2個,分別安裝于上下法蘭上 5、工作溫度:兩個加熱區(qū)域單獨工作的高溫度≤650℃,兩加熱區(qū)域大溫差≤350℃ 6、加熱速率:>8℃/s 7、冷卻速率:>10℃/s(600℃-100℃) 8、真空法蘭:316不銹鋼制作,配有1個KF-25接口、2個1/4″軟管接頭 9、真空計:數(shù)字式真空顯示計 |
可選配件 | 1、PC控溫軟件 2、兩路混氣系統(tǒng) 3、多路浮子混氣系統(tǒng) 4、多路質(zhì)子混氣系統(tǒng) 5、真空泵 6、水冷機(jī) |