產(chǎn)品簡介:VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。
產(chǎn)品名稱 | VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀 | ||
產(chǎn)品型號 | VTC-600-3HD | ||
安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水) 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套 接頭)及減壓閥 4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通風裝置:需要 | ||
主要特點 | 1、配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換)。 2、可制備多種薄膜,應用廣泛。 3、體積小,操作簡便。 4、整機模塊化設計,真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計,可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整。 5、可根據(jù)用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍。 | ||
技術參數(shù) | 1、電源電壓:220V 50Hz 2、總功率:<2.5KW 3、極限真空度:< E-6mbar(配合本公司設備使用可達到 E-5mbar) 4、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實際需要提升溫度) 5、靶槍數(shù)量:3個 6、靶槍冷卻方式:水冷 7、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同) 8、直流濺射功率:500W(可選) 9、射頻濺射功率:300W/500W(可選) 10、載樣臺:Ø140mm 11、載樣臺轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 12、保護氣體:Ar、N2等惰性氣體 13、進氣氣路:質(zhì)量流量計控制2路進氣,1個流量為100 SCCM,1個流量為200 SCCM | ||
產(chǎn)品規(guī)格 | 主機尺寸:500mm×560mm×660mm,整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg | ||
標準配件 | 1 | 直流電源控制系統(tǒng) | 2套 |
2 | 射頻電源控制系統(tǒng) | 1套 | |
3 | 膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng) | 1套 | |
4 | 分子泵(德國進口) | 1臺 | |
5 | 冷水機 | 1臺 | |
6 | 冷卻水管(Ø6mm) | 4根 | |
可選配件 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 掩膜版 振動樣品臺 |