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    產(chǎn)品|二手機|公司|采購|資訊

    VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

    參考價面議
    具體成交價以合同協(xié)議為準
    • 公司名稱沈陽科晶自動化設備有限公司
    • 品       牌沈陽科晶/KEJING
    • 型       號
    • 所  在  地
    • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
    • 更新時間 2021-03-15
    • 訪問次數(shù)320
    產(chǎn)品標簽:

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    沈陽科晶自動化設備有限公司是由畢業(yè)于美國麻省理工學院的江曉平博士于2000年5月創(chuàng)建。與合肥科晶材料技術有限公司、深圳市科晶智達科技有限公司同屬于科晶聯(lián)盟。自*SYJ-150低速金剛石切割機誕生以來,沈陽科晶便開始了以趕超國外同行、材料分析設備潮流為目標的發(fā)展歷程。時至今日,已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結(jié)、分析等領域以及相關耗材的上百種產(chǎn)品,可以滿足晶體、陶瓷、玻璃、巖相、礦樣、金屬材料、耐火材料、復合材料、生物材料等制備分析的全套需要。  沈陽科晶立足國內(nèi)市場實際情況,以提供實用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎上,產(chǎn)品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。的性價比不僅吸引了眾多國內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。  沈陽科晶一直致力于高等院校、研究所、生產(chǎn)企業(yè)的科研服務,即產(chǎn)品定位于研究市場,主要面向廣大高等院校、科研機構(gòu)、實驗室以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)。多年以來,已與全國眾多高校、研究院所建立了良好的合作、服務關系。其中北京大學、清華大學、浙江大學、哈爾濱工業(yè)大學、東北大學等高校,*金屬研究所、上海硅酸鹽研究所、中國科學地質(zhì)與地球物理研究所等科研機構(gòu),中國航天工業(yè)集團公司、中國船舶重工集團公司、攀鋼集團有限公司等*企業(yè)都是*合作的榮譽客戶。  沈陽科晶為了更好地服務客戶,專門設立了開放式專業(yè)實驗室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導。開設以來,制作的樣品達上千件,接待來訪客戶參觀百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。此外,沈陽科晶擁有優(yōu)質(zhì)、高效、專業(yè)的銷售咨詢、售后服務團隊,能夠為每一位客戶提供采購建議與方案、完善的使用指導與售后服務。使每一位客戶的需求得到滿足是沈陽科晶每個員工不懈努力的目標。  沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻的歷程,是以實際行動將自己打造成國內(nèi)材料分析設備的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為市場上專業(yè)的、杰出的材料分析設備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。
    測厚儀,金相顯微鏡,維氏硬度計,表面粗糙度儀
    VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
    VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀 產(chǎn)品信息

    產(chǎn)品簡介:VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED

     

    產(chǎn)品名稱

    VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

    產(chǎn)品型號

    VTC-600-3HD

    安裝條件

    本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

    1、水:設備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)

    2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地

    3、氣:設備腔室內(nèi)需注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套

           接頭)及減壓閥

    4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm承重200kg以上

    5、通風裝置:需要

    主要特點

    1配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換)。

    2可制備多種薄膜,應用廣泛。

    3體積小,操作簡便。

    4、整機模塊化設計,真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計,可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整。

    5根據(jù)用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍。

    技術參數(shù)

    1、電源電壓:220V  50Hz

    2、總功率:<2.5KW

    3、極限真空度:< E-6mbar(配合本公司設備使用可達到 E-5mbar

    4、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實際需要提升溫度)

    5、靶槍數(shù)量:3

    6、靶槍冷卻方式:水冷

    7靶材尺寸:Ø2,厚度0.1mm-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)

    8、直流濺射功率:500W(可選)

    9、射頻濺射功率:300W/500W(可選)

    10載樣臺:Ø140mm,可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能,以實現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。

    11、載樣臺轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)

    12、保護氣體:ArN2等惰性氣體

    13、進氣氣路:質(zhì)量流量計控制2路進氣,1流量為100 SCCM1流量為200 SCCM

    產(chǎn)品規(guī)格

    主機尺寸:500mm×560mm×660mm整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg

    標準配件

    1

    直流電源控制系統(tǒng)

    2

    2

    射頻電源控制系統(tǒng)

    1

    3

    膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)

    1

    4

    分子泵(德國進口)

    1

    5

    冷水機

    1

    6

    冷卻水管(Ø6mm

    4

    可選配件

    金、銦、銀、等各種靶材

    掩膜版

    振動樣品臺

     


     

     

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