產(chǎn)品簡介:VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個(gè)靶槍,一個(gè)弱磁靶用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,一個(gè)強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使用的材料范圍廣,是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
產(chǎn)品型號 | VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 | ||
產(chǎn)品型號 | VTC-600-2HD | ||
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水) 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭)及減壓閥 4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置:需要 | ||
主要特點(diǎn) | 1、配置兩個(gè)靶槍,一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。 2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。 3、體積小,操作簡便。 | ||
技術(shù)參數(shù) | 1、電源電壓:220V 50Hz 2、功率:<2KW(不含真空泵) 3、極限真空度:9.0×10-4Pa 4、樣品臺加熱溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度) 5、靶槍數(shù)量:2個(gè)(可選配其他數(shù)量) 6、靶槍冷卻方式:水冷 7、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同) 8、直流濺射功率:500W;射頻濺射功率:300W。(靶電源種類可選,可選擇兩個(gè)直流電源,也可選擇兩個(gè)射頻電源,或選則一個(gè)直流一個(gè)射頻電源) 9、載樣臺:Ø140mm,可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能,以實(shí)現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。 10、載樣臺轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 11、工作氣體:Ar等惰性氣體 12、進(jìn)氣氣路:質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。 | ||
產(chǎn)品規(guī)格 | 1、主機(jī)尺寸:500mm×560mm×660mm 2、整機(jī)尺寸:1300mm×660mm×1200mm 3、真空室規(guī)格:φ300×300mm 4、重量:160kg | ||
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1 | 直流電源控制系統(tǒng) | 1套 |
2 | 射頻電源控制系統(tǒng) | 1套 | |
3 | 膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng) | 1套 | |
4 | 分子泵(德國進(jìn)口) | 1臺 | |
5 | 冷水機(jī) | 1臺 | |
6 | 冷卻水管(Ø6mm) | 4根 | |
可選配件 | 金、銦、銀、白金等各種靶材 |