產(chǎn)品簡介:SE-L光譜橢偏儀是一款全自動高精度光譜橢偏儀,集眾多科技技術,采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術,配置全自動測量模塊。通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量,快速實現(xiàn)光學參數(shù)薄膜和納米結構的表征分析。SE-L光譜橢偏儀廣泛應用于半導體薄膜結構:介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜,激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件、平板顯示、光伏太陽能、功能性涂料、生物和化學工程、塊狀材料分析等領域。
產(chǎn)品型號 | SE-L光譜橢偏儀 | ||
主要特點 | 1、高精度自動測量光學橢偏測量解決方案 2、全自動變角、調(diào)焦等控制平臺,一鍵快速測量 3、軟件交互式界面配合輔助向導式設計,易上手、操作便捷 4、豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結構模型庫,保證強大數(shù)據(jù)分析能力 5、采用氘燈和鹵素燈復合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm) 6、高精度旋轉補償器調(diào)制、PCRSA配置,實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集 7、全自動橢偏測量技術,基于行業(yè)電機控制技術,全自動調(diào)整測量角度,高精度控制樣件臺,實現(xiàn)樣件快速自動對準找焦 8、頤光技術確保在寬光譜范圍內(nèi),提供優(yōu)質穩(wěn)定的各波段光譜 9、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料 | ||
技術參數(shù) | 1、自動化程度:自動變角 2、應用定位:自動型 3、基本功能:Psi/Delta、N/C/S、R/T等光譜 4、分析光譜:380-1000nm(可擴至193-2500nm) 5、單次測量時間:0.5-5s 6、重復性測量精度:0.01nm 7、光斑大小:大光斑2-3mm,微光斑200um 8、入射角調(diào)節(jié)方式:自動變角 9、入射角范圍:45-90° 10、找焦方式:自動找焦 11、Mapping行程:支持100x100mm(可選配) 12、支持樣件尺寸:大至200mm | ||
可選配置 | 波段選擇 V:380-1000nm UV:245-1000nm XN:210-1650nm DN+:193-2500nm 角度選擇 自動:45-90° 其他選擇 Mapping選擇:100×100mm(供參考,按需定制) 溫控臺:室溫一600℃(供參考,按需定制) | ||
可選配件 | 1 | 溫控臺 |
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2 | Mapping擴展模塊 |
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3 | 真空泵 |
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4 | 透射吸附組件 |
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