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    產(chǎn)品|二手機|公司|采購|資訊

    GSL-CKJS-560-B2磁控濺射

    參考價面議
    具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
    • 公司名稱沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
    • 品       牌沈陽科晶/KEJING
    • 型       號
    • 所  在  地
    • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
    • 更新時間 2021-03-15
    • 訪問次數(shù)376
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    沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司是由畢業(yè)于美國麻省理工學(xué)院的江曉平博士于2000年5月創(chuàng)建。與合肥科晶材料技術(shù)有限公司、深圳市科晶智達科技有限公司同屬于科晶聯(lián)盟。自*SYJ-150低速金剛石切割機誕生以來,沈陽科晶便開始了以趕超國外同行、材料分析設(shè)備潮流為目標(biāo)的發(fā)展歷程。時至今日,已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結(jié)、分析等領(lǐng)域以及相關(guān)耗材的上百種產(chǎn)品,可以滿足晶體、陶瓷、玻璃、巖相、礦樣、金屬材料、耐火材料、復(fù)合材料、生物材料等制備分析的全套需要。  沈陽科晶立足國內(nèi)市場實際情況,以提供實用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上,產(chǎn)品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。的性價比不僅吸引了眾多國內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。  沈陽科晶一直致力于高等院校、研究所、生產(chǎn)企業(yè)的科研服務(wù),即產(chǎn)品定位于研究市場,主要面向廣大高等院校、科研機構(gòu)、實驗室以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)。多年以來,已與全國眾多高校、研究院所建立了良好的合作、服務(wù)關(guān)系。其中北京大學(xué)、清華大學(xué)、浙江大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、東北大學(xué)等高校,*金屬研究所、上海硅酸鹽研究所、中國科學(xué)地質(zhì)與地球物理研究所等科研機構(gòu),中國航天工業(yè)集團公司、中國船舶重工集團公司、攀鋼集團有限公司等*企業(yè)都是*合作的榮譽客戶。  沈陽科晶為了更好地服務(wù)客戶,專門設(shè)立了開放式專業(yè)實驗室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術(shù)人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導(dǎo)。開設(shè)以來,制作的樣品達上千件,接待來訪客戶參觀百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。此外,沈陽科晶擁有優(yōu)質(zhì)、高效、專業(yè)的銷售咨詢、售后服務(wù)團隊,能夠為每一位客戶提供采購建議與方案、完善的使用指導(dǎo)與售后服務(wù)。使每一位客戶的需求得到滿足是沈陽科晶每個員工不懈努力的目標(biāo)。  沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻的歷程,是以實際行動將自己打造成國內(nèi)材料分析設(shè)備的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為市場上專業(yè)的、杰出的材料分析設(shè)備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。
    測厚儀,金相顯微鏡,維氏硬度計,表面粗糙度儀
    GSL-CKJS-560-B2磁控濺射
    GSL-CKJS-560-B2磁控濺射 產(chǎn)品信息

    產(chǎn)品簡介:高真空濺射可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備,且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點,可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。

    產(chǎn)品型號

    GSL-CKJS-560-B2磁控濺射

    安裝條件

    本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25±15,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

    1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)

    2、電:AC380V 50Hz,必須有良好接地

    3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注/氬氣(純度99.99%以上),需自備/氬氣氣瓶(自帶Ø10mm雙卡套接頭)及減壓閥

    4場地設(shè)備尺寸3500×1600mm,承重1000kg以上

    5、通風(fēng)裝置:需要

    主要特點

    1真空度高

    2、可制備多種薄膜,金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等,應(yīng)用廣泛。

    3、體積小,操作簡便。

    4、清理安裝便捷。

    5控制可選一體化觸摸屏控制。

    技術(shù)參數(shù)

    1主濺射室尺寸:Ø560×355mm梨形真空室

    2主濺射室真空度5×10-6Pa

    3進樣室尺寸: Ø255×430mm

    4進樣室真空度5×10-4Pa

    5永磁靶5套,靶材尺寸φ2,各靶射頻與直流濺射兼容(其中1個靶可濺射鐵磁材料

    6公轉(zhuǎn)樣品臺6個工位,5個水冷工位,1個加熱工位,加熱工位高溫度 600℃±1℃

    7樣品尺寸:φ1,可放置6片

    8基片可加-200V負(fù)偏壓

    9進樣室可一次性安裝6片樣品,可對被鍍樣品進行退火處理,退火溫度 800℃±1℃

    10、進樣室可對基片進行反濺清洗

    11進樣室和主濺射室之間通過磁力樣品機構(gòu)進行樣品傳遞

    產(chǎn)品規(guī)格

    整機尺寸:2700×900mm×2000mm。

    標(biāo)準(zhǔn)配件

    1

    電源控制系統(tǒng)

    1

    2

    真空獲得系統(tǒng)

    1

    3

    真空測量裝置

    1

    二手機推薦

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