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    產(chǎn)品|二手機|公司|采購|資訊

    GSL-PECVD-300化學(xué)氣相沉積

    參考價面議
    具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
    • 公司名稱沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
    • 品       牌沈陽科晶/KEJING
    • 型       號
    • 所  在  地
    • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
    • 更新時間 2021-03-15
    • 訪問次數(shù)209
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    沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司是由畢業(yè)于美國麻省理工學(xué)院的江曉平博士于2000年5月創(chuàng)建。與合肥科晶材料技術(shù)有限公司、深圳市科晶智達(dá)科技有限公司同屬于科晶聯(lián)盟。自*SYJ-150低速金剛石切割機誕生以來,沈陽科晶便開始了以趕超國外同行、材料分析設(shè)備潮流為目標(biāo)的發(fā)展歷程。時至今日,已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結(jié)、分析等領(lǐng)域以及相關(guān)耗材的上百種產(chǎn)品,可以滿足晶體、陶瓷、玻璃、巖相、礦樣、金屬材料、耐火材料、復(fù)合材料、生物材料等制備分析的全套需要。  沈陽科晶立足國內(nèi)市場實際情況,以提供實用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上,產(chǎn)品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。的性價比不僅吸引了眾多國內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。  沈陽科晶一直致力于高等院校、研究所、生產(chǎn)企業(yè)的科研服務(wù),即產(chǎn)品定位于研究市場,主要面向廣大高等院校、科研機構(gòu)、實驗室以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)。多年以來,已與全國眾多高校、研究院所建立了良好的合作、服務(wù)關(guān)系。其中北京大學(xué)、清華大學(xué)、浙江大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、東北大學(xué)等高校,*金屬研究所、上海硅酸鹽研究所、中國科學(xué)地質(zhì)與地球物理研究所等科研機構(gòu),中國航天工業(yè)集團公司、中國船舶重工集團公司、攀鋼集團有限公司等*企業(yè)都是*合作的榮譽客戶。  沈陽科晶為了更好地服務(wù)客戶,專門設(shè)立了開放式專業(yè)實驗室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術(shù)人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導(dǎo)。開設(shè)以來,制作的樣品達(dá)上千件,接待來訪客戶參觀百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。此外,沈陽科晶擁有優(yōu)質(zhì)、高效、專業(yè)的銷售咨詢、售后服務(wù)團隊,能夠為每一位客戶提供采購建議與方案、完善的使用指導(dǎo)與售后服務(wù)。使每一位客戶的需求得到滿足是沈陽科晶每個員工不懈努力的目標(biāo)。  沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻(xiàn)的歷程,是以實際行動將自己打造成國內(nèi)材料分析設(shè)備的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為市場上專業(yè)的、杰出的材料分析設(shè)備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。
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    GSL-PECVD-300化學(xué)氣相沉積
    GSL-PECVD-300化學(xué)氣相沉積 產(chǎn)品信息

    產(chǎn)品簡介:GSL-PECVD-300化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強型化學(xué)氣相沉積技術(shù),基本溫度低,沉積速率,在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜質(zhì)量好,針孔較少,不易龜裂,適制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

    產(chǎn)品型號

    GSL-PECVD-300化學(xué)氣相沉積

    安裝條件

    本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25±15,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

    1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)

    2、電:AC380V 50Hz,必須有良好接地

    3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注/氬氣(純度99.99%以上),需自備實驗所需氣體氣瓶(自帶Ø10mm雙卡套接頭)及減壓閥

    4場地設(shè)備尺寸2200×2000mm×1500mm,承重1000kg以上

    5、通風(fēng)裝置:需要

    主要特點

    1所需成膜溫度低

    2沉積速率快,應(yīng)用廣泛

    3、體積小,操作簡便

    4、采用射頻為增強源易于控制

    5、清理安裝便捷。

    6、一體化觸摸屏控制

    技術(shù)參數(shù)

    1、系統(tǒng)采用單室式結(jié)構(gòu),手動前開門;
    2真空室組件及配備零部件全部采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造(304),氬弧焊接,表面采用噴玻璃丸+電化學(xué)拋光鈍化處理配有可視觀察窗口,并帶擋板,真空有效尺寸為Φ300mm×300mm;
    3極限真空度:≤6.67x10-4Pa (經(jīng)烘烤除氣后,采用600L/S分子泵抽氣,前級采用4L/S);
    系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S; 系統(tǒng)從大氣開始抽氣到5.0x10-3 Pa,40分鐘可達(dá)到; 停泵關(guān)機12小時后真空度:≤5 Pa;
    4采用樣品在下,噴淋頭在上的電容式耦合方式進(jìn)氣;
    5樣品加熱高加熱溫度:500℃,溫控精度:±1°C,采用控溫表進(jìn)行控溫;
    6噴淋頭尺寸:Φ90mm,噴淋頭與樣品之間電極間距40-100mm在線連續(xù)可調(diào)(可根據(jù)工藝調(diào)整),并帶有標(biāo)尺指數(shù)顯示;
    7 沉積工作真空:0.133-133Pa(可根據(jù)工藝調(diào)整)
    8射頻電源:頻率 13.56MHz,大功率500W,全自動匹配;
    9、.氣體種類(用戶提供),使用質(zhì)量流量控制器控制進(jìn)氣。

    10、系統(tǒng)設(shè)有尾氣處理系統(tǒng)(用戶自備)。

    產(chǎn)品規(guī)格

    整機尺寸:1200x1500x1500mm

    標(biāo)準(zhǔn)配件

    1

    電源控制系統(tǒng)

    1

    2

    真空機組

    1

    3

    真空測量

    1

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