產(chǎn)品簡(jiǎn)介:SKCC-GZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭(公、自旋轉(zhuǎn)靶頭)適用靶材種類(lèi)較廣,如金屬/絕緣靶或磁性/非磁性靶材。配裝有環(huán)形永磁體在靶頭上,以保證濺射鍍膜的效率和均勻性。可與DC或RF電源配合使用。
產(chǎn)品型號(hào) | SKCC-GZB-X(高真空磁控濺射公、自旋轉(zhuǎn)靶頭) |
產(chǎn)品規(guī)格 | 1寸,SKCC-GZB-1 2寸,SKCC-GZB-2 3寸,SKCC-GZB-3 4寸,SKCC-GZB-4 注:其它尺寸可以訂制 |
主要特點(diǎn) | 1、轉(zhuǎn)靶帶擋板(可實(shí)現(xiàn)每次露出一個(gè)工作的靶,避免交叉污染); 2、采用電磁場(chǎng)的有元計(jì)算法來(lái)設(shè)計(jì)永磁體,以得到較高的磁場(chǎng)強(qiáng)度和均勻分布; 3、轉(zhuǎn)靶轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分可調(diào); 4、標(biāo)準(zhǔn)的HN型接頭,可與DC和RF電源相匹配; 5、安裝采用標(biāo)準(zhǔn)真空法蘭(CF金屬密封或Dg膠圈密封可選); 6、靶材更換較為簡(jiǎn)單,無(wú)需調(diào)整濺射頭的高度。 |
配套電源 | 1、直流DC;2、射頻RF |