天津福業(yè)動(dòng)力機(jī)械科技發(fā)展有限公司
ROLLON滑塊CES30-88-2Z,導(dǎo)軌TES30-1600
鍍后除氫
由于鍍鉻的電流效率低,在陰極上大量析出氫氣,對于易析氫的鋼鐵部件,應(yīng)在鍍后180~200℃的溫度,除氫3h,以避免發(fā)生氫脆。
3)鍍液中雜質(zhì)影響及去除鍍鉻電解液中常見的有害雜質(zhì)主要是Fe3+、Cu2+、Zn2+、Pb2+、Ni2+等金屬離子和Cl-、NO3-。
金屬離子主要源于沒有被鉻層覆蓋部位金屬的溶解、落入鍍槽中的零件未打撈而溶解以及陽極浸蝕等。當(dāng)金屬離子積累到一定含量時(shí),將給鍍鉻工藝帶很大的影響,如鍍層的光亮范圍縮小,電解液的分散能力降低,導(dǎo)電性變差等。鍍液對雜質(zhì)的容忍量隨鉻酐濃度的增加而增加,所以低濃度鍍液對雜質(zhì)敏感。當(dāng)鍍液中Fe3+超過15~20g/L,Cu2+超過5g/L,Zn2+超過3g/L時(shí),鍍液必須進(jìn)行處理。采用低電流密度處理能收到一定的效果。
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金屬雜質(zhì)可用酸性陽離子交換樹脂處理而除去。為減小鍍鉻溶液對離子交換樹脂的氧化破壞,應(yīng)先將鍍液稀釋至80g/L以下后再處理。由于酸性陽離子交換樹脂較貴,因此有時(shí)也將廢了的鍍液轉(zhuǎn)為他用,如鈍化液等而降低生產(chǎn)成本。
新配制的鍍鉻液,電壓一般在3~5V,如濃度時(shí),電壓要低些。如果發(fā)現(xiàn)電壓大于前述值時(shí),鍍液中可能含有雜質(zhì)。Cl-源于槽液補(bǔ)充水、零件清洗水等的帶入,或是鹽酸浸蝕后清洗不干凈帶入。Cl-過多會使鍍液分散能力與深度能力下降,鍍層發(fā)灰、粗糙、甚至出現(xiàn)花斑,還可引起基體及鉛陽極的腐蝕。消除過多的Cl-,可將鍍液加熱到70℃,大電流密度電解處理,使其在陽極上氧化為析出。但此法能耗大,效果也不十想;也可加入適量的碳酸銀,生成氯化銀沉淀,雖然此方法效果較,但加入的碳酸銀還能與鉻酸反應(yīng)生成鉻酸銀沉淀,不僅銀鹽消耗太多,又損失了鉻酐,增加了生產(chǎn)成本。辦法是盡量減少Cl-帶入,因此補(bǔ)充槽液 去離子水,鍍前的弱浸蝕采用稀溶液。必須采用鹽酸時(shí),則加清洗。NO3-是有害的雜質(zhì),即使含量很低也會使鍍層發(fā)灰、失去光澤,并腐蝕鍍槽的鉛襯里和鉛陽極。除去NO3-的方法是:以每升電解液1A電流電解處理。若鍍液中NO3-含量較多時(shí),先用BaCO3將鍍槽中的*去,然后在65~80℃大電流電解處理,使硝酸根離子在陰極上還原為NH3而除去。