ZYMP-2自動(dòng)雙盤(pán)臺(tái)式金相試樣研磨拋光機(jī)
ZYMP-2自動(dòng)雙盤(pán)臺(tái)式金相試樣研磨拋光機(jī)是我公司按用戶(hù)需求開(kāi)發(fā)研制推出的一款自動(dòng)金相試樣研磨拋光制樣設(shè)備,研磨拋光時(shí)間采用倒計(jì)時(shí)數(shù)字顯示,在0~100min定時(shí)范圍內(nèi)任意給定。壓力按加載大小數(shù)字顯示,在O~200N加載范圍內(nèi)任意給定。磨盤(pán)轉(zhuǎn)速采用儀表顯示,在0~1400r/min范圍內(nèi)任意調(diào)節(jié)。工作時(shí),磨盤(pán)在調(diào)速電機(jī)的驅(qū)動(dòng)下旋轉(zhuǎn),并根據(jù)一設(shè)定的壓力,按理想的加壓保壓和分段卸壓方式將夾持盤(pán)壓在轉(zhuǎn)動(dòng)的磨盤(pán)上,從而能快速去除試樣表面的磨痕和消除變形層拋光時(shí)間到達(dá)后,磨盤(pán)停止轉(zhuǎn)動(dòng),夾持盤(pán)自動(dòng)提升,從而實(shí)現(xiàn)無(wú)人監(jiān)控操作。本機(jī)可根據(jù)不同金屬材料的需要現(xiàn)場(chǎng)設(shè)置和存儲(chǔ)工作參數(shù)(速度、壓力和時(shí)間),也可從存儲(chǔ)器中調(diào)用已事先設(shè)置的工作參數(shù),具有很高的智能化程度。
■ ZYMP-2自動(dòng)雙盤(pán)臺(tái)式金相試樣研磨拋光機(jī)主要參數(shù):
產(chǎn)品型號(hào) | ZYMP-2型自動(dòng)雙盤(pán)、臺(tái)式金相試樣研磨拋光機(jī) |
研磨方式 | 自動(dòng)研磨 |
研磨直徑 | Φ |
研磨盤(pán)數(shù)量 | 2只 |
研磨轉(zhuǎn)速 | 100~1400rpm/min無(wú)級(jí)調(diào)速 |
研磨功率 | 400W |
冷卻裝置 | 2套 |
研磨試樣數(shù)量 | 4個(gè)(一次可研磨試樣數(shù)) |
研磨規(guī)格 | 可選擇(Φ22mm、Φ30mm、Φ45mm及定制規(guī)格) |
氣壓壓力 | 2.3~ |
研磨頭轉(zhuǎn)速 | 20~120rpm/min無(wú)級(jí)調(diào)速 |
研磨頭加壓方式 | 氣體單獨(dú)加壓 |
操作界面 | 數(shù)字顯示、薄膜開(kāi)關(guān)、可設(shè)定研磨轉(zhuǎn)速、 定時(shí)時(shí)間、轉(zhuǎn)向、水槽清洗等功能 |
顯示項(xiàng)目 | 運(yùn)轉(zhuǎn)速度、時(shí)間到計(jì)時(shí)、氣壓 |
加壓力量調(diào)節(jié)范圍 | 0~ |
研磨時(shí)間 | 可設(shè)定范圍0~100分鐘(可顯示剩余工作時(shí)間) |
研磨頭旋轉(zhuǎn)方向 | 可以按用戶(hù)需求、自行設(shè)定調(diào)整 |
研磨方向 | 可選擇正轉(zhuǎn)或反轉(zhuǎn) |
試樣夾具 | 可快速進(jìn)行更換(快速裝拆功能) |
使用電源 | 220VAC |
耗用功率 | 1000W |
外形尺寸 | 長(zhǎng)×寬×高:757×623×645mm |
重 量 |