試片尺寸 | 210×210mm~300×400mm |
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重現(xiàn)性 | 1σ 0.5nm以內(nèi) |
測定范圍 | Z:100um X:100~305mm (Y移動量:150~400mm) |
分解能 | Z:0.1nm X:0.1um |
測定力 | 0.5UN~500UN (0.05mg-50mg) |
臺階儀可以應(yīng)用在半導(dǎo)體,光伏/太陽能,光電子,化合物半導(dǎo)體,OLED,生物醫(yī)藥,PCB封裝等領(lǐng)域的薄膜厚度,臺階儀測量薄膜厚度,臺階高度,粗糙度(Ra,Rq,Rmax...),劃痕深度,磨損深度,薄膜應(yīng)力(曲定量率半徑法)等定量測量方面。其高精度,高重復(fù)性,自動探索樣品表面
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