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    昆山國華電子專業(yè)等離子設(shè)備代工服務(wù)

    參考價(jià)面議
    具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
    • 公司名稱昆山國華電子科技有限公司
    • 品       牌
    • 型       號(hào)RTR2000L-W500
    • 所  在  地蘇州市
    • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
    • 更新時(shí)間 2019-08-14
    • 訪問次數(shù)744

    昆山國華電子科技有限公司是一家集等離子技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和推廣于一體的高科技公司:秉承“服務(wù)創(chuàng)造價(jià)值、技術(shù)成就未來”的宗旨,為客戶提供表面處理領(lǐng)域的整體解決方案。

          公司由多名*從事等離子體技術(shù)應(yīng)用研究,設(shè)備制造和銷售的業(yè)內(nèi)*人事創(chuàng)建。核心技術(shù)發(fā)展于歐洲,同時(shí)充分借鑒歐美的*技術(shù),并通過與國內(nèi)外研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)的資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的高性能的等離子體處理系統(tǒng)。集團(tuán)合作團(tuán)隊(duì)包括 EUROPLASMA、PSM等,應(yīng)用領(lǐng)域涉及電子、光電、汽車、塑膠、紡織、生物、醫(yī)療、化工、日用品及家電等行業(yè)。

          公司成立以來已為眾多企業(yè)、大學(xué)院校、研究機(jī)構(gòu)提供等離子體處理設(shè)備和解決方案。售前可免費(fèi)提供試樣和方案認(rèn)證,以竭誠服務(wù)各領(lǐng)域科研項(xiàng)目為公司的宗旨。

          我們倡導(dǎo)技術(shù)創(chuàng)新,充分發(fā)揮新技術(shù)在企業(yè)經(jīng)營中的主導(dǎo)作用,以滿足客戶的個(gè)性化需求為己任,為客戶提供與等離子處理系統(tǒng)相關(guān)技術(shù)的支持與服務(wù),致力于成為的行業(yè)!

    等離子表面處理設(shè)備、低溫等離子設(shè)備、電漿機(jī)、等離子代加工服務(wù)、等離子方案解決提供
    產(chǎn)地 國產(chǎn) 售后保修期 24個(gè)月
    銷售區(qū)域 全國,華東,華南,華北,華中,東北,西南,西北,港澳臺(tái),海外
    昆山國華電子專業(yè)等離子設(shè)備代工服務(wù),其應(yīng)用在行業(yè)生產(chǎn)過程起到很重要作用,但是還有很多人不知道為什么需要等離子表面處理機(jī)。等離子表面處理機(jī)產(chǎn)生的等離子體是物質(zhì)的一種存在的狀態(tài),這些物質(zhì)通常會(huì)以液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)三種存在;還有四種狀態(tài)就是等離子體狀態(tài),在特殊的情況下,如地球大氣中電離層中的物質(zhì)和太陽表面的物質(zhì)。
    昆山國華電子專業(yè)等離子設(shè)備代工服務(wù) 產(chǎn)品信息

    昆山國華電子專業(yè)等離子設(shè)備代工服務(wù)

    昆山國華電子科技為您普及一下等離子相關(guān)知識(shí):

    等離子表面處理機(jī)中存在有些物質(zhì)呢?當(dāng)處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)下的電子處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán);離子華的原子、分子;分子解離反應(yīng)過程中生成的紫外線;未反應(yīng)的分子、原子等,這些物質(zhì)在總體上都是保持持電的中性態(tài)態(tài)。等離子表面處理機(jī)的技術(shù)作為一種新型的材料表面改性方法,等離子表面處理設(shè)備因效果好被廣泛用各領(lǐng)域中,下面通幾個(gè)方面給大家介紹:

    金屬表面去油及清洗:金屬表面常常會(huì)有油脂、油污等有機(jī)物及氧化層,在進(jìn)行濺射、油漆、粘合、鍵合、焊接、銅焊和PVD、CVD涂覆前,需要用等離子表面處理設(shè)備來得到*潔凈和無氧化層的表面。

    1.等離子表面處理機(jī)離子刻蝕:在等離子刻蝕過程中,通過處理氣體的作用,被刻蝕物會(huì)變成氣相。處理氣體和基體物質(zhì)被真空泵抽出,表面連續(xù)被新鮮的處理氣體覆蓋。不希望被刻蝕部分要使用材料覆蓋起來(例如半導(dǎo)體行業(yè)用鉻做覆蓋材料)。
    2.
    等離子表面處理機(jī)刻蝕和灰化:聚四氟(PTFE)在未做處理的情況下不能印刷或粘合。*,使用活躍的鈉堿性金屬可以增強(qiáng)粘合能力,但是這種方法不容易掌握,同時(shí)溶液是有毒的。使用等離子方法不僅僅保護(hù)環(huán)境,還能達(dá)到更好效果。
    3.
    等離子表面處理機(jī)在塑料、玻璃和陶瓷的表面活化和清洗:塑料、玻璃、陶瓷與聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚四氟(PTFE)等等一樣是沒有極性的,因此這些材料在印刷、粘合、涂覆前要進(jìn)行處理。同時(shí),玻璃和陶瓷表面的輕微金屬污染也可以用等離子方法清洗。等離子處理與灼燒處理相比不會(huì)損害樣品。同時(shí)還可以十分均勻地處理整個(gè)表面,不會(huì)產(chǎn)生有毒煙氣,中空和帶縫隙的樣品也可以處理。 
    ·不需要用化學(xué)溶劑進(jìn)行預(yù)處理 
    ·所有的塑料都能應(yīng)用 
    ·具有環(huán)保意義 
    ·占用很小工作空間 
    ·成本低廉 
    等離子表面處理機(jī)的效果可以簡單地用滴水來驗(yàn)證,處理過的樣品表面*被水潤濕。長時(shí)間的等離子處理(大于15分鐘),材料表面不但被活化還會(huì)被刻蝕,刻蝕表面具有極小的表面接觸角和潤濕能力。

    小型等離子清洗/刻蝕機(jī)的特殊應(yīng)用:
    小型等離子清洗機(jī)在處理TEM樣品具有明顯的優(yōu)勢(shì)。處理后生成物為二氧化碳和水,不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染,由于TEM工作在非常潔凈的環(huán)境中,因此等離子清洗時(shí)目前處理TEM樣品為理想的技術(shù)。優(yōu)勢(shì)在于:處理后*殘留物;可以防止TEM樣品在以后的使用中形成污斑;在非常敏感的薄膜的微量分析中,使用低能量的X光,不會(huì)形成吸收層;在高擴(kuò)大率下得到更好的數(shù)據(jù);真實(shí)的表面呈現(xiàn)和表面成分分析;成本低、便于操作。
    另外,小型等離子清洗/刻蝕機(jī)還應(yīng)用于考古學(xué)、石棉分析、醫(yī)學(xué)研究、微生物工程等領(lǐng)域。


    昆山國華電子專業(yè)等離子設(shè)備代工服務(wù): 

    電漿與材料表面可產(chǎn)生的反應(yīng)主要有兩種,一種是靠自由基來做化學(xué)反應(yīng),另一種則是靠等離子作物理反應(yīng),以下將作更詳細(xì)的說明。

    (1)化學(xué)反應(yīng)(Chemical reaction) 在化學(xué)反應(yīng)里常用的氣體有氫氣(H2)、氧氣(O2)、甲烷(CF4)等,這些氣體在電漿內(nèi)反應(yīng)成高活性的自由基,其方程式為: 這些自由基會(huì)進(jìn)一步與材料表面作反應(yīng)。

    其反應(yīng)機(jī)理主要是利用等離子體里的自由基來與材料表面做化學(xué)反應(yīng),在壓力較高時(shí),對(duì)自由基的產(chǎn)生較有利,所以若要以化學(xué)反應(yīng)為主時(shí),就必須控制較高的壓力來近進(jìn)行反應(yīng)。

    (2)物理反應(yīng)(Physical reaction)

    主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊,把材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉,由于離子在壓力較低時(shí)的平均自由基較輕長,有得能量的累積,因而在物理撞擊時(shí),離子的能量越高,越是有的作撞擊,所以若要以物理反應(yīng)為主時(shí),就必須控制較的壓力下來進(jìn)行反應(yīng),這樣清洗效果較好,為了進(jìn)一步說明各種設(shè)備清洗的效果。 
    等離子體清洗機(jī)的機(jī)理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。 因?yàn)?/span>等離子表面處理機(jī)表現(xiàn)在化學(xué)變化和物理變化。物理變化時(shí),是將材料表面改性粗化,蝕刻后表面的突起物增多,增加表面積。如果暴露在有污染的空氣中,混入灰塵、油污、雜質(zhì),表面能會(huì)逐漸減低。化學(xué)變化時(shí),等離子處理時(shí)會(huì)引入含氧極性基團(tuán),如羥基和羧基,這些活性分子具有時(shí)效性,容易與其它物質(zhì)發(fā)生化學(xué)變化,處理后表面能保留的時(shí)間不好確定。所以等離子處理后,馬上進(jìn)行下一道工序,避免表面能衰退做無用功。

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